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J-GLOBAL ID：202002285392622704   整理番号：20A0030201

原子層堆積により調製したTiO_2被覆活性炭繊維フェルト上でのZIF-8成長によるホルムアルデヒドの効率的除去【JST・京大機械翻訳】

Efficient removal of formaldehyde with ZIF-8 growth on TiO₂-coated activated carbon fiber felts prepared via atomic layer deposition

著者 (7件)： Ren Lipei (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China) ,  Yu Yan (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China) ,  Yang Yuan (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China) ,  Zhang Qian (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China) ,  Xiao Xingfang (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China) ,  Liu Ruina (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China) ,  Xu Weilin (State Key Laboratory of New Textile Materials and Advanced Processing Technologies, Wuhan Textile University, Wuhan, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 55  号： 8  ページ： 3167-3180  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゼオライト性イミダゾレートフレーム-8(ZIF-8)は,多様な毒性または有害ガスを除去するための優れた吸着剤材料と見なされている。しかし,そのミリからナノスケールのサイズは典型的にその応用を制限している。本研究では,原子層堆積(ZIF-8@ALD-ACFフェルト)を介してTiO_2被覆活性炭繊維フェルト上に組み立てたZIF-8ナノ結晶を実証した。これはHCHO除去のための高効率吸着剤として使用できる。ALDによる基板としてTiO_2被覆ACFフェルトを用いることは,ZIF-8ナノ結晶に対する多数の成長サイトを提供することができ,HCHOの迅速で高効率な除去をもたらす。さらに,ZIF-8@ALD-ACFフェルトは紫外線(UV)光下でHCHOの高効率除去を達成した。HCHOは110分以内に高濃度で完全に除去できた。さらに,UV光下では,6分以内に低濃度で完全に除去できた。ZIF-8中のACFとナノケージ中のミクロ細孔は,小分子HCHO取込に適しており,TiO_2による光触媒反応のための十分な接触時間を提供する。ALD技術はMOFベース材料の実用化のための有用な方法論を提供する。Copyright 2019 Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 接触時間 ,  紫外線 ,  細孔 ,  ナノ結晶 ,  吸着剤 ,  有害ガス ,  *フェルト ,  小分子 ,  光触媒反応 ,  *被覆 ,  脂肪族アルデヒド
準シソーラス用語： ナノケージ ,  高効率 ,  ナノスケール ,  *ZIF-8 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 静電機器  (NB10020R) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  光化学一般  (CB08010U)

物質索引 (1件)： ホルムアルデヒド

タイトルに関連する用語 (7件)： 原子層堆積 ,  調製 ,  活性炭繊維 ,  フェルト ,  ZIF-8 ,  成長 ,  ホルムアルデヒド