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J-GLOBAL ID：202002285676903775   整理番号：20A2698775

回転振動励起NO分子およびN-アニオン形成のための解離性電子付着断面積【JST・京大機械翻訳】

Dissociative electron attachment cross sections for ro-vibrationally excited NO molecule and N^- anion formation

著者 (4件)： Laporta V (Istituto per la Scienza e Tecnologia dei Plasmi, CNR, Bari, Italy) ,  Schneider I F (Laboratoire Ondes et Milieux Complexes, CNRS-Universite Le Havre Normandie, Le Havre, France) ,  Schneider I F (Laboratoire Aime Cotton, CNRS-Universite Paris-Saclay, ENS Cachan, Orsay, France) ,  Tennyson J (Department of Physics and Astronomy, University College London, London, London WC1E 6BT, United Kingdom)
資料名： Plasma Sources Science and Technology  (Plasma Sources Science and Technology)
巻： 29  号： 10  ページ： 10LT01 (6pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0479A  ISSN： 0963-0252  CODEN： PSTEEU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 非平衡プラズマモデリングのためのデータの膨大な必要性に動機づけられて,NO分子への解離電子付着の理論的研究を行った。ここで示した計算は,5つのNO-共鳴を考慮した局所複素ポテンシャル法に基づいている。励起窒素原子N(2D)とそのアニオンN-の生成を含むプロセスの3つの特異的チャネルを研究した。既存の実験データの解釈とそれらの理論的結果との比較を示した。回転振動分解断面積と対応する速度係数の完全なセットを報告した。特に,入射電子の低エネルギーでのN-イオン形成と振動励起NOターゲットに対する比較的大きな断面積を予測した。最後に,分子回転効果を論じた。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 共鳴 ,  *断面積 ,  *電子付着 ,  *励起 ,  *振動励起 ,  分子回転 ,  *アニオン ,  二次元 ,  チャネル ,  *解離性付着
準シソーラス用語： 低エネルギー ,  低温プラズマ ,  *回転振動 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： プラズマ一般  (BJ02010B)

タイトルに関連する用語 (7件)： 回転振動 ,  励起 ,  NO ,  分子 ,  アニオン ,  解離性電子付着 ,  断面積