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J-GLOBAL ID:202002285746865273   整理番号:20A0230039

事前パターン化表面上の制御された高分子脱濡れによる膜厚依存ブロック共重合体自己集合の理解【JST・京大機械翻訳】

Understanding Film Thickness-Dependent Block Copolymer Self-Assembly by Controlled Polymer Dewetting on Prepatterned Surfaces
著者 (12件):
資料名:
巻:号:ページ: e1901605  発行年: 2020年 
JST資料番号: W2484A  ISSN: 2196-7350  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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ブロック共重合体(BCP)リソグラフィーは,大きな表面積上に規則的なナノスケールパターンを形成するための汎用ボトムアップアプローチである。BCPのミクロ相分離中に発生するパターン形態は,高分子膜厚に強く依存した。従って,高分子と基板間の界面エネルギーだけでなく表面濡れは高分子挙動を決定するが,これらの効果の複雑な相互作用はまだ完全には理解されていない。本研究では,プレパターン化表面上のBCP自己集合の膜厚依存性を記述するモデルを提案した。ナノ孔パターン化表面上での高分子の脱濡れは,異なるプレパターン寸法,高分子量,およびミクロ相分離温度を用いて制御される。これにより,正確な局所膜厚変調が可能になり,従って,BCP自己集合を調整された階層的ナノ構造のアレイに導くことができることが分かった。ナノホール内部に閉じ込められた異なる膜厚のミクロ相分離高分子の全表面自由エネルギーの解析的計算によりモデルを確認した。この洞察は,高分子の脱濡れとBCP自己集合における基本的な過程の理解に寄与し,光学,プラズモニクス,および生物医学デバイスにおける応用のための大きな領域における高度な階層的ナノ構造の制御された創出を可能にする。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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電気化学反応 

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