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J-GLOBAL ID：202002286019608729   整理番号：20A1414949

異なるイオンビームフルエンスでのTi_3InC_2のAr+照射の効果【JST・京大機械翻訳】

Effect of Ar⁺ irradiation of Ti₃InC₂ at different ion beam fluences

著者 (12件)： Bakardjieva S. (Institute of Inorganic Chemistry of the Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic) ,  Horak P. (Nuclear Physics Institute of Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic) ,  Vacik J. (Nuclear Physics Institute of Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic) ,  Cannavo A. (Nuclear Physics Institute of Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic) ,  Lavrentiev V. (Nuclear Physics Institute of Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic) ,  Torrisi A. (Nuclear Physics Institute of Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic) ,  Michalcova A. (Department of Metals and Corrosion Engineering, University of Chemistry and Technology, Technicka 5, Prague 6 16628, Czech Republic) ,  Klie R. (University of Illinois at Chicago, Department of Physics, 845 W Taylor Str., 60607 Chicago, USA) ,  Rui X. (University of Illinois at Chicago, Department of Physics, 845 W Taylor Str., 60607 Chicago, USA) ,  Calcagno L. (University of Catania (UC), Dipartimento di Fisica e Astronomia, Via S. Sofia 64, 95135 Catania, Italy) ,  Nemecek Jiri (Czech Technical University in Prague Department of Mechanics, Thakurova 7, 166 29 Prague, Czech Republic) ,  Ceccio G. (Nuclear Physics Institute of Czech Academy of Science, 20568 Husinec-Rez, Czech Republic)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 394  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MAX相は,ナノ層状微細構造を有する三元炭化物または窒化物のグループである。MAX相の一般式は,n=1から3のM_n+1AX_nであり,Mは遷移金属であり,AはA族元素(IIIAからVIAまで)であり,Xは炭素または窒素のいずれかである。これらの炭化物と窒化物は,化学的,物理的,電気的および機械的特性に関して金属とセラミックスの特性を結合する異常な挙動を有している。これらの特性はMAX相の異方性ラメラ微細構造によって説明できる。ここでは,低エネルギーイオン施設(LEIF)における単一(Ti,InおよびC)元素の繰り返しイオンビームスパッタリングによって合成された薄いTi_3InC_2(M_3AX_2)膜に関する研究を報告する。25keVのエネルギーと400μAの電流を持つAr+イオンビームを用いてイオンビームスパッタリングを行った。Ti_3InC_2膜の厚さ(RBSで測定)は約65nmであった。堆積後,試料を真空中120°Cで24時間アニールし,界面化学相互作用を誘起し,Ti_3InC_2複合材料を形成した。イオン照射によって誘起された放射線硬度と効果を評価するために,堆積したままのTi_3InC_2膜を,2つの異なるフルエンス,1×1013cm-2と1×1015cm-2の100keVのAr+イオンビームで照射した。Ar+イオン(1~1013cm-2)の低レベルフルエンスは,表面粗さにいかなる大きな変化も誘起せず,多結晶構造が保存されることを決定した。しかし,より高いフルエンスでは,ナノ結晶Ti_3InC_2の格子内の集中点欠陥の形成と低レベルの非晶質化が記録された。ナノインデンテーションによって決定された機械的性質は,過酷な環境条件で照射されたTi_3InC_2薄膜を使用する可能性を示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *イオンビーム ,  焼なまし ,  セラミック ,  電流 ,  薄膜 ,  炭素 ,  窒素 ,  窒化物 ,  多結晶 ,  イオン照射 ,  イオンビームスパッタリング ,  *フルエンス ,  アモルファス化 ,  ナノ結晶
準シソーラス用語： ナノ薄膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： Ti_3InC_2 ,  MAX相 ,  薄膜 ,  イオン照射 ,  微細構造 ,  ナノインデンテーション

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)