文献
J-GLOBAL ID:202002286477299340   整理番号:20A0579521

純粋なおよび吸着されたパッカリングアレンナノ構造の構造的および機械的性質:DFT研究【JST・京大機械翻訳】

Structural and mechanical properties of pristine and adsorbed puckered arsenene nanostructures: A DFT study
著者 (4件):
資料名:
巻: 139  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: D0600B  ISSN: 0749-6036  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
密度汎関数理論を用いて,ヒ素の弾性および塑性特性に及ぼす吸着の影響を研究した。Al,Ga,LiおよびSe原子は吸着原子と考えられる。縦方向および横方向における元のおよび吸着したヒ素のYoung率の研究は,これらの構造の異方性挙動を示した。さらに,結果は,Li吸着構造を除いて,他の吸着構造の縦Young率は増加し,一方,横Young率は減少し,一方,吸着により影響を受けることを示した。さらに,Al吸着構造を除いて,ヒ素の体積弾性率は他の原子吸着によって減少することが示された。さらに,縦方向一軸荷重下でのSe吸着構造の降伏歪および横方向一軸荷重下でのGaおよびLi吸着構造は増加したが,他の構造は反対の結果を経験した。最後に,Al-およびSe-吸着構造にもかかわらず,GaおよびLi原子の吸着は,二軸荷重下での構造の降伏歪を増加させることがわかった。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
13-15族化合物を含む半導体-半導体接合  ,  半導体結晶の電子構造 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る