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J-GLOBAL ID：202002287291968441   整理番号：20A2448843

Ni箔上のナノメートル厚グラファイト膜の高速ウエハスケール成長とその構造解析【JST・京大機械翻訳】

Fast, wafer-scale growth of a nanometer-thick graphite film on Ni foil and its structural analysis

著者 (3件)： Deokar Geetanjali ( King Abdullah University of Science and Technology (KAUST), Physical Science and Engineering Division, Thuwal 23955-6900, Saudi Arabia) ,  Genovese Alessandro ( King Abdullah University of Science and Technology, Core Labs, Thuwal 23955-6900, Saudi Arabia) ,  Costa Pedro M F J ( King Abdullah University of Science and Technology (KAUST), Physical Science and Engineering Division, Thuwal 23955-6900, Saudi Arabia)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 31  号： 48  ページ： 485605 (13pp)  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)による多結晶Ni上のグラファイトの成長および黒鉛膜および金属基板の微細構造関係は,科学界をパズルする。ここでは,高速熱CVD法(5分成長)によるNi箔上のナノメータ厚さのグラファイト膜(~100nm,NGF)のウエハスケール成長を報告する。さらに,NGFの局在化した厚さ変化がNi表面トポグラフィーと粒子特性にどのように関係するかを明らかにした。マクロスケール(mm2)では,ミクロおよびナノスケールで研究された時,NGF膜は数百の高度に規則化したグラフェン層(d_0002=0.335nm)で均一であり,数層のグラフェン部分が同定できた。これらは100μm2の0.1%~3%領域の密度に存在し,2層ほど薄く,{111}fcc-Ni面とのエピタキシャル関係に従う。50cm2のNGFを通して,鋭いグラファイト/基板界面は,NiC_x層またはグラフェン層のいずれかから成る。さらに,湿式化学エッチング法により,SiO_2/Si基板上にNGFを転写することに成功した。製造したままのNGFは,天然グラファイトフレークまたはポリマーシートから製造したmm厚膜の代替を補完または提供することができた。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： エピタクシー ,  界面 ,  重合体 ,  *ニッケル ,  *グラファイト ,  多結晶 ,  化学蒸着 ,  厚膜 ,  熱CVD ,  グラフェン ,  ウェットエッチング
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  ナノスケール ,  局在化 ,  表面トポグラフィー , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (8件)： Ni ,  箔 ,  厚 ,  グラファイト ,  ウエハ ,  スケール ,  成長 ,  構造解析