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J-GLOBAL ID：202002287668701345   整理番号：20A0580273

ノルウェートウヒ樹皮側流の強化:UVA照射によるスチルベノイドに富む抽出物の生物活性および保護特性の改変【JST・京大機械翻訳】

Enhancement of Norway spruce bark side-streams: Modification of bioactive and protective properties of stilbenoid-rich extracts by UVA-irradiation

著者 (10件)： Vaelimaa Anna-Liisa (Natural Resource Institute Finland (Luke), Paavo Havaksen tie 3, FI-90570 Oulu, Finland) ,  Raitanen Jan-Erik (Natural Resource Institute Finland (Luke), Tietotie 2, FI-02150 Espoo, Finland) ,  Tienaho Jenni (Natural Resource Institute Finland (Luke), Kaironiementie 15, FI-39700 Parkano, Finland) ,  Sarjala Tytti (Natural Resource Institute Finland (Luke), Kaironiementie 15, FI-39700 Parkano, Finland) ,  Nakayama Eiko (Showa Women‘s University, 1 Chome-7-57 Taishido, Setagaya City, Tokyo 154-8533, Japan) ,  Korpinen Risto (Natural Resource Institute Finland (Luke), Tietotie 2, FI-02150 Espoo, Finland) ,  Maekinen Sari (Natural Resources Institute Finland (Luke), Myllytie 1, FI-31600 Jokioinen, Finland) ,  Eklund Patrik (Johan Gadolin Process Chemistry Centre, Åbo Akademi University, FI-20500 Turku, Finland) ,  Willfor Stefan (Johan Gadolin Process Chemistry Centre, Åbo Akademi University, FI-20500 Turku, Finland) ,  Jyske Tuula (Natural Resource Institute Finland (Luke), Tietotie 2, FI-02150 Espoo, Finland)
資料名： Industrial Crops and Products  (Industrial Crops and Products)
巻： 145  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： W0732A  ISSN： 0926-6690  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ノルウェートウヒ(Picea abies[L.]Karst)樹木の樹皮は大量のポリフェノール性スチルベングルコシドを含んでいる。スチルベンに富む樹皮抽出物は,それらの抗酸化性,抗真菌性および抗菌性により保存料として利用できる。スチルベン類は感光性化合物であるので,紫外線(UV)光はよく知られた分子内環化を誘導し,ジヒドロフェナントレン中間体を経て置換フェナントレンの生成をもたらす。しかし,スチルベン抽出物の生物学的活性における可能なUV誘導変化は,ほとんど知られていない。このような情報は,実際の応用開発に重要である。本研究では,トウヒ樹皮抽出物のUVA処理が抽出物の化学組成にどのように影響するかを初めて明らかにし,さらにそれらの抗菌活性および抗酸化活性を変化させた。ノルウェーのトウヒ内部樹皮を抽出し,Amberlite XADHP7を用いて除去した可溶性モノおよび二糖類を抽出した。次に,これらの抽出物をUVA光(「Extract UV」,「Extract XAD UV」)で処理し,化学的性質をGC-MSとHP-SECで分析した。黄色ぶどう球菌,Candida albicansおよび大腸菌に対する未処理および修飾抽出物の抗菌活性を評価した。さらに,未処理およびUV処理樹皮抽出物間の抗酸化活性の差異を,FRAPおよびORAC法を用いて,0.5mg/mL EtOHの全スチルベン濃度で測定した。また,脂質酸化を防止するための抽出物の能力を評価するために,リポソームモデルにおいて抗酸化効果を評価した。著者らの新しい結果は,スチルベンに富む内部樹皮抽出物のUVA誘導修飾がラジカル消去活性を増加させることを示した。しかしながら,UVA照射は,リポソーム系法における脂質酸化を防止するために抽出物の能力を減少させた。また,結果はUVA修飾後に維持されたかわずかに増加した抗菌活性を示した。本研究は,ノルウェートウヒ樹皮スチルベノイドとUVA照射により形成された化合物が生物学的活性を示し,従って保存料としての商業的可能性を有することを示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 化学組成 ,  大腸菌 ,  二糖類 ,  紫外線 ,  *トウヒ ,  黄色ぶどう球菌 ,  鵞口瘡カンジダ ,  *樹皮 ,  *生物活性 ,  保存料 ,  抗真菌作用 ,  GC-MS分析 ,  リポソーム ,  *Picea abies ,  抗細菌作用

著者キーワード (6件)： 抗酸化剤 ,  抗菌薬 ,  樹皮側流 ,  防腐剤の使用 ,  スチルベノイド ,  UV光

分類 (1件)： 植物の生化学  (EH01050J)

タイトルに関連する用語 (9件)： ノルウェートウヒ ,  樹皮 ,  強化 ,  UVA照射 ,  スチルベノイド ,  抽出物 ,  生物活性 ,  保護特性 ,  改変