文献
J-GLOBAL ID:202002288080568576   整理番号:20A0285328

フォトニック応用のためのエルビウム添加イットリア安定化ジルコニア薄層【JST・京大機械翻訳】

Erbium-Doped Yttria-Stabilized Zirconia Thin Layers for Photonic Applications
著者 (22件):
資料名:
巻: 56  号:ページ: ROMBUNNO.7000107.1-7  発行年: 2020年 
JST資料番号: H0432A  ISSN: 0018-9197  CODEN: IEJQA7  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
非従来の光学材料のハイブリッド集積は,従来のシリコンベースのプラットフォーム上のチップ機能性の範囲を実質的に拡張する有望な方法である。特に,機能性酸化物は,超伝導,圧電性,強誘電性,および光学効果を含む多くの魅力的な特性を示すので,非常に有望である。本論文では,低損失シリコン窒化物(SiN)導波路の上部に活性発光クラッドとして使用されるErドープ(Erドープ)イットリア安定化ジルコニア(YSZ)薄膜を有するハイブリッドフォトニックプラットフォームを実証した。この活性層をパルスレーザ蒸着(PLD)法により成長させた。Er:YSZ薄膜におけるErイオンの強い近赤外(近赤外)発光を実証するために,光ルミネセンス(PL)測定による光学特性評価を,正常および面内光入射の両方で行った。さらに,ハイブリッドEr:YSZ-on-SiNx導波路からの可視および近赤外波長における強い面内誘導PL発光も観測した。これらの結果は,シリコンベースのプラットフォーム上の希土類ドープYSZ構造への道を開き,それによって将来のフォトニック集積回路のために必要な機能の汎用性を与える。Copyright 2020 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

分類 (3件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
光導波路,光ファイバ,繊維光学  ,  半導体レーザ  ,  レーザ一般 
タイトルに関連する用語 (4件):
タイトルに関連する用語
J-GLOBALで独自に切り出した文献タイトルの用語をもとにしたキーワードです

前のページに戻る