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J-GLOBAL ID：202002288692952019   整理番号：20A0803099

陽電子消滅法による純Ni中の水素誘起欠陥と水素脆化

Hydrogen-induced defects and hydrogen embrittlement in pure Ni by positron annihilation spectroscopy

著者 (3件)： 藤浪真紀 (千葉大 大学院) ,  小島健司 (千葉大 大学院) ,  LUCA Chiari (千葉大 大学院)
資料名： 材料とプロセス(CD-ROM)  (Current Advances in Materials and Processes (CD-ROM))
巻： 33  号： 1  ページ： ROMBUNNO.261  発行年： 2020年03月01日 
JST資料番号： X0994B  ISSN： 1882-8922  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ・水素の拡散係数が鉄のα相とγ相の中間の値である純Ni(fcc)を用いて,空孔-水素複合体の挙動を陽電子消滅法により調査。
・純ニッケルに陰極電解法により室温で水素添加後,室温引張試験を行い,77Kから室温の間で陽電子寿命測定を行って,寿命スペクトルを2から3成分で解析。
・水素添加直後77K測定で160psの成分を検出,203Kで単空孔相当の180ps,273Kで225ps,室温で250psから36時間後に330ps程度で飽和。
・水素添加直後Ni材と室温2日間時効材の引張試験結果では,無処理材に比較して前者は63%で破断,後者は90%で破断したが,この結果と陽電子の結果を合わせて考察。

シソーラス用語： *陽電子消滅 ,  *ニッケル ,  脆化 ,  複合体 ,  水素 ,  引張試験 ,  *水素脆性 ,  空孔欠陥 ,  格子欠陥 ,  半減期
準シソーラス用語： 水素チャージ ,  水素脆化 ,  陽電子寿命

分類 (1件)： 金属材料  (HC04020L)

引用文献 (1件)：

• A. Komatsu, M. Fujinami, CAMP-ISIJ 31 (2018) 325.

タイトルに関連する用語 (6件)： 陽電子消滅法 ,  Ni ,  水素 ,  誘起 ,  欠陥 ,  水素脆化