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J-GLOBAL ID：202002288964186172   整理番号：20A1236111

SOIスラブ導波路に基づく光導波路交差

Optical waveguide crossing based on SOI slab waveguides

著者 (4件)： Guo Jialiang (Department of Communications Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Yu Jiyao (Department of Communications Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Matsuda Nobuyuki (Department of Communications Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan) ,  Yamada Hirohito (Department of Communications Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, Sendai 980-8579, Japan)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 13  号： 5  ページ： 052010 (3pp)  発行年： 2020年05月 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコンオンインシュレータ(SOI)スラブ導波路構造に基づくユニークな光導波路交差を提案し,数値的に解析した。SOIスラブ導波路のシリコンコア層に形成されたシリカ壁とビームスポットサイズ変換器からなる四つの湾曲ミラーからなる光導波路交差を作製した。15×15μm²のデバイスフットプリントを持つ設計に基づいて,3D-FDTDシミュレーションにより,1.25μmから1.6μmまでの波長範囲において,-0.3dBの挿入損失,-35dB以下のクロストークのような優れたデバイス性能を得た。Please refer to the publisher for the copyright holders. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *SOI構造 ,  *平面導波路 ,  *光導波路 ,  交差 ,  数値解析 ,  範囲 ,  有限差分時間領域法 ,  挿入損 ,  クロストーク ,  三次元数値解析 ,  フットプリント ,  波長領域
準シソーラス用語： スラブ導波路 ,  FDTD解析 ,  波長域 ,  挿入損失

分類 (1件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

タイトルに関連する用語 (4件)： SOI ,  スラブ導波路 ,  光導波路 ,  交差