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J-GLOBAL ID：202002290011798953   整理番号：20A0296054

電子ビーム照射によるポリ(ブチレンアジパート-co-テレフタラート)/ε-ポリカプロラクトン)のその場架橋により作製した三重形状記憶材料とその三重形状記憶効果【JST・京大機械翻訳】

A triple-shape memory material fabricated by in situ crosslinking of poly(butylene adipate-co-terephthalate)/ε-polycaprolactone via electron-beam irradiation and its triple-shape memory effects

著者 (10件)： Wu Xianyou (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  Wu Xianyou (University of Science and Technology of China, Hefei, 230026, People’s Republic of China) ,  Qian Jing (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  fu Chao (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  Tan Zhongyang (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  Gao Yixing (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  Ma Antong (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  Ma Antong (University of Science and Technology of China, Hefei, 230026, People’s Republic of China) ,  Nie Wei (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China) ,  Ran Xianghai (Key Laboratory of High-performance Synthetic Rubber and its Composite Materials, Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, Changchun, 130022, People’s Republic of China)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 137  号： 16  ページ： e48588  発行年： 2020年 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,電子ビーム照射により誘起されたポリ(ブチレンアジパート-co-テレフタラート)/ε-ポリカプロラクトンブレンド)のその場架橋により,三重形状記憶高分子材料を作製した。照射架橋の固有特性,この不均一系における架橋規則,界面架橋分子の形成,および結果としての界面強度を研究した。引張試験では明らかな界面滑りは観察されず,破断伸びは900%以上であった。非線形領域での高温緩和と回復実験は,優れた超弾性率と回復比(R_r)が96kGy以上の照射試料で95%と高いことを確認した。加熱速度と緩和速度の間の不整合は,回復過程の間に不安定な一時的形状と加熱モード依存回復挙動の両方をもたらした。中間温度における一時的形状の自己安定性も,第2のR_rが著者らの実験において100%以上である現象の観点から強調した。J.Appl.Pol.SCI,137,48588。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *形状記憶効果 ,  放射線架橋 ,  緩和速度 ,  高温 ,  不整合 ,  界面 ,  超弾性 ,  引張試験 ,  加熱速度 ,  回復試験 ,  緩和現象 ,  不均一系 ,  *電子照射
準シソーラス用語： 破断伸び ,  界面強度 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 電子ビーム照射 ,  in situ架橋 ,  界面強度 ,  自己安定性 ,  三重形状記憶効果

分類 (1件)： 放射線高分子化学  (CG03050S)

タイトルに関連する用語 (9件)： 電子ビーム照射 ,  CO ,  テレフタラート ,  ポリカプロラクトン ,  架橋 ,  作製 ,  三重 ,  形状記憶材料 ,  形状記憶効果