光学的および電流発光分光法によりプローブしたマトリックス分離メタンにおける非定常過程【JST・京大機械翻訳】

Savchenko E.V.; Khyzhniy I.V.; Uyutnov S.A.; Bludov M.A.; Bondybey V.E.

文献

J-GLOBAL ID：202002290085598076 整理番号：20A2647599

光学的および電流発光分光法によりプローブしたマトリックス分離メタンにおける非定常過程【JST・京大機械翻訳】

Nonstationary processes in matrix-isolated methane probed by optical and current emission spectroscopy

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資料名：
巻： 1221 ページ： Null 発行年： 2020年
JST資料番号： B0948B ISSN： 0022-2860 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

CH_4をドープしたArマトリックス中の非定常プロセスを放射線分解生成物-H原子とCHラジカルの挙動に焦点を当てて研究した。厚さ25μmの試料を1.5keV電子ビームで照射した。電子の小さい侵入深さのため,マトリックスのバルクは,9.8eVのエネルギーを有する光子によって優先的に励起され,マトリックスの最も強い発光帯(Ar_2*の立体配置に自己捕獲された励起子)が,言い換えれば,「内部光分解」が起こることを示した。脱着粒子の全収率と共に,H原子とCHラジカルのスペクトル分解発光を,光子と外部加熱の同時作用の下で相関様式で監視した。非定常ルミネセンス(NsL)および非定常脱着(NsD)と呼ばれるこれらの依存性を,熱刺激エキソ電子放出(TSEE)の測定収率と比較し,中性化反応CH_3++e-→CH_3*におけるCHラジカルの出現とその後のCH_3*の解離を明らかにすることができた。したがって,CHラジカルはCH_3*種の特徴であると仮定した。CH NsLとNsDの,Arマトリックスにおける拡散が起こる温度範囲37~43Kにおけるアンチベート挙動を,CH_3ラジカルのC_2H_6の生成と脱着に費やされたエネルギー放出との再結合の結果として解釈した。振幅増加の約10sの自己振動が検出され,5%CH_4をドープしたArマトリクスのバルクにおける自己振動過程を示した。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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分子化合物

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