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J-GLOBAL ID：202002290447511928   整理番号：20A0522608

ポリ(エーテルエーテルケトン)基質により支持された光架橋双性イオン重合体ブラシの高耐久性潤滑性【JST・京大機械翻訳】

Highly Durable Lubricity of Photo-Cross-Linked Zwitterionic Polymer Brushes Supported by Poly(ether ether ketone) Substrate

著者 (8件)： Nakano Hiroki (Graduate School of Science and Engineering, Kansai University, Osaka, Japan) ,  Noguchi Yuri (Graduate School of Science and Engineering, Kansai University, Osaka, Japan) ,  Kakinoki Sachiro (Faculty of Chemistry, Materials and Bioengineering, Kansai University, Osaka, Japan) ,  Kakinoki Sachiro (Organization for Research and Development of Innovative Science and Technology, Kansai University, Osaka, Japan) ,  Yamakawa Mai (Department of Pharmaceutical Engineering, Faculty of Engineering, Toyama Prefectual University, Toyama, Japan) ,  Osaka Issey (Department of Pharmaceutical Engineering, Faculty of Engineering, Toyama Prefectual University, Toyama, Japan) ,  Iwasaki Yasuhiko (Faculty of Chemistry, Materials and Bioengineering, Kansai University, Osaka, Japan) ,  Iwasaki Yasuhiko (Organization for Research and Development of Innovative Science and Technology, Kansai University, Osaka, Japan)
資料名： ACS Applied Bio Materials  (ACS Applied Bio Materials)
巻： 3  号： 2  ページ： 1071-1078  発行年： 2020年 
JST資料番号： W5668A  ISSN： 2576-6422  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 潤滑性を改善するために,材料表面上の双性イオン性高分子ブラシの形成は最も有望なアプローチの一つである。本研究では,双性イオン性高分子ブラシの安定性を改善するために,光反応性双性イオン性単量体2-[2-(メタクリロイルオキシ)-エチルジメチル-アンモニウム]エチルベンゾフェノキシりん酸(MBPP)を合成した。MBPPはこの分子にベンゾフェノン部分を含むが,双性イオン性リンカーのため水溶性である。基質として,ポリ(エーテルエーテルケトン)(PEEK)は,最近,整形外科インプラントにおける金属の代替に用いられているので,選択された。さらに,PEEKは感光性であり,表面上の(メタ)-アクリル単量体のUVグラフト重合は,光開始剤を使用せずに行うことができた。種々のモル比の2-(メタクリロイルオキシ)-エチルホスホリルコリン(MPC)とMBPPを含む水溶液を調製し,PEEK試料をこれらの溶液に浸漬した。UV光を用いて溶液を180分間照射し,PEEK試料上の双性イオン性高分子のグラフト層の形成を接触角測定とX線光電子分光法を用いて確認した。PEEKの表面摩擦は双性イオン性単量体の光重合により効果的に減少した。しかし,ポリ-(MPC)(PMPC)-グラフト表面の表面潤滑性は,表面からのPMPCの除去のため,連続摩擦中に劣化した。それにもかかわらず,高分子ブラシの安定性は単量体溶液中に0.5~0.75mol%のMBPPを添加することにより効果的に改善された。さらに,表面上の摩耗の減少を共焦点レーザ顕微鏡を用いて測定した。優れた潤滑現象は,圧縮応力下でのグラフト重合体の水和状態の保存に起因した。さらに,基質への細菌付着を試験し,非架橋PMMAグラフト化PEEKの純PEEKおよびスクラッチ領域で観察した。細菌接着はMBPPによる架橋PMPCブラシで修飾したPEEKの表面で完全に抑制された。従って,MPCとMBPPによるPEEKの表面改質は,整形外科用デバイスに理想的な表面特性を提供できると結論した。Copyright 2020 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *高分子ブラシ ,  整形外科 ,  単量体 ,  グラフト共重合 ,  グラフト共重合体 ,  X線光電子分光法 ,  水溶液 ,  *ブラシ ,  光重合 ,  水和 ,  *双性イオン ,  高分子 ,  接触角 ,  *光架橋 ,  ポリエーテルエーテルケトン

著者キーワード (6件)： 表面改質 ,  光重合 ,  架橋高分子ブラシ ,  潤滑 ,  ポリ(エーテルエーテルケトン) ,  整形外科装置

分類 (2件)： 共重合  (CG04030D) ,  医用素材  (GA05040H)

タイトルに関連する用語 (7件)： 基質 ,  支持 ,  光架橋 ,  双性イオン ,  重合体ブラシ ,  高耐久性 ,  潤滑性