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J-GLOBAL ID：202002291250371077   整理番号：20A1253004

焼成プロセスにおける焼結防止のための光触媒粒子の高分子被覆【JST・京大機械翻訳】

Polymer-coating of photocatalytic particles to prevent sintering in their calcination process

著者 (4件)： Namigata Hikaru (Department of Chemical Engineering, Tohoku University, 6-6-07 Aoba, Aramaki-aza, Aoba-ku, Sendai, Miyagi, 980-8579, Japan) ,  Watanabe Kanako (Department of Chemical Engineering, Tohoku University, 6-6-07 Aoba, Aramaki-aza, Aoba-ku, Sendai, Miyagi, 980-8579, Japan) ,  Okubo Saya (Department of Chemical Engineering, Tohoku University, 6-6-07 Aoba, Aramaki-aza, Aoba-ku, Sendai, Miyagi, 980-8579, Japan) ,  Nagao Daisuke (Department of Chemical Engineering, Tohoku University, 6-6-07 Aoba, Aramaki-aza, Aoba-ku, Sendai, Miyagi, 980-8579, Japan)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 599  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 焼成過程における光触媒粒子の焼結を防止する方法を開発し,それらの比表面積を著しく減少させることなく結晶化を可能にした。500°Cでの熱処理における非晶質チタニア粒子の結晶化のために,焼結から粒子を防ぐための高分子の犠牲層を用いた。熱処理は熱分解により高分子層を同時に除去した。高分子の犠牲層を用いた熱処理はチタニア粒子の比表面積の減少を抑制し,水中でのコロイド安定性を維持し,犠牲層を使用しない場合よりも高い光触媒活性を達成した。これらの結果は,高分子被覆法が,粒子のコロイド安定性と光触媒活性の両方を失うことなく,光触媒粒子の結晶化に有効であることを示している。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 凝集 ,  結晶化 ,  重合体 ,  *焼結 ,  熱処理 ,  熱分解 ,  *被覆 ,  非晶質 ,  *高分子 ,  *光触媒
準シソーラス用語： 犠牲層 ,  二酸化チタン ,  光触媒活性 ,  コロイド安定性 ,  *高分子被覆 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 光触媒 ,  二酸化チタン ,  ポリマーコーティング ,  焼結 ,  凝集 ,  コロイド安定性

分類 (3件)： コロイド化学一般  (CB11010C) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  光化学反応  (CB08020F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 焼成プロセス ,  焼結 ,  光触媒粒子 ,  高分子被覆