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J-GLOBAL ID：202002291343029539   整理番号：20A2627004

固相焼成CuCrO_2薄膜の結晶方位の改善に及ぼす形成ガスアニーリングの効果【JST・京大機械翻訳】

Effect of forming gas annealing on improvement in crystal orientation of solid-phase calcined CuCrO₂ thin film

著者 (4件)： Ohno Kotaro (Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan) ,  Okada Takeru (Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan) ,  Kawashima Tomoyuki (Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan) ,  Washio Katsuyoshi (Department of Electronic Engineering, Graduate School of Engineering, Tohoku University, 6-6-05 Aza-Aoba, Aramaki, Aoba-ku, Sendai, Miyagi 980-8579, Japan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 714  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 固相か焼によるCuCrO_2薄膜の形成におけるガス(窒素ガス中の5%水素ガスの混合ガス)アニーリングの影響を調べた。フォーミングガスアニーリングは,非晶質CuCrO_2膜中のCu2+イオンのCu+イオンへの還元に寄与し,面外および面内結晶配向の両方を改善した。ArとO_2の混合ガス中で行った反応性スパッタリングによって形成したCuCrO_2中の酸素空孔の補給は,ガスアニーリングの形成によるCu2+還元の効果を強化した。成形ガスアニーリングは,1/10のより小さな抵抗率を得るために効果的であったが,光透過率の改善には有効ではなかった。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光学的性質 ,  混合気体 ,  *焼なまし ,  電気抵抗率 ,  *薄膜 ,  アルゴン ,  *結晶方位 ,  非晶質 ,  か焼 ,  *固相
準シソーラス用語： フォーミングガス ,  酸素空格子点 ,  窒素ガス ,  光透過率 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： 焼成 ,  光学特性 ,  電気的性質 ,  デラフォサイト ,  結晶性 ,  透明導電性酸化物 ,  銅-クロム酸化物

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 固相 ,  焼成 ,  薄膜 ,  結晶方位