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J-GLOBAL ID:202002291878467803   整理番号:20A0896452

X線自由電子レーザーと産業利用への展開 X線自由電子レーザーの産業応用

XFEL user experiments for industrial applications
著者 (1件):
資料名:
号: 460  ページ: 154-157  発行年: 2020年04月10日 
JST資料番号: Y0019A  ISSN: 0286-9659  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 解説  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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・現在進んでいる,もしくは考えられているX線自由電子レーザー(XFEL)を使った産業応用や,将来可能になると期待され産業界注目の技術について紹介。
・XFELを使った現在の研究は,バイオ,ナノ,極限物質,X線光学などの広範囲な科学分野に広がっていて,それぞれ特異な存在。
・すでに研究が行われているフェーズにあるものとして,新薬開発などを目指した構造変化研究,触媒開発などの化学工業への応用,材料工学的な研究について紹介。
・実現は先になると考えられるが,将来の可能性を含めて提案されている研究として,リソグラフィ光源・検査光源などへの応用,ナノ材料・ナノ構造の機能材料への応用,核変換産業に関する貢献について紹介。
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