文献

J-GLOBAL ID：202002295594263601   整理番号：20A2582510

陽子ビーム書込みを用いて作製したポリメタクリル酸メチルパターンへの銀ナノ構造埋め込み【JST・京大機械翻訳】

Silver nanostructures embedding in polymethyl methacrylate patterns fabricated using proton beam writing

著者 (10件)： Mongwaketsi Nametso (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Matinise Nolubabalo (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Matinise Nolubabalo (UNESCO-UNISA Africa Chair in Nanosciences/Nanotechnology, University of South Africa, Pretoria, South Africa) ,  Madito Jack (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Khumalo Zakhelumuzi (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Mayedwa Noluthando (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Mayedwa Noluthando (UNESCO-UNISA Africa Chair in Nanosciences/Nanotechnology, University of South Africa, Pretoria, South Africa) ,  Mtshali Christopher (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Pieters Caswell (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa) ,  Nkosi Mlungisi (National Research Foundation, iThemba LABS, Materials Research Department, Somerset West, South Africa)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 52  号： 12  ページ： 1034-1039  発行年： 2020年 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリメタクリル酸メチル(PMMA)上の陽子ビーム書き込み(PBW)とそれに続くバイオ合成銀ナノ粒子(AgNPs)の埋込みを調べた。これは,PBW技術を用いてパターンを作製するため,ithemba LABSでの3MV Tandetron加速器の使用の最初の実証である。PMMAの照射は,3.0MeV陽子ビームを用いてマイクロメートルスポットサイズに集束した。陽子のフルエンスを,露光時間,ビーム電流,照射面積でモニタした単位当りの電荷として計数した。予想通り,PMMAは陽子ビームとの相互作用から誘起された鎖切断のため,正のレジストとして挙動した。走査電子顕微鏡(SEM)を用いた形態学的キャラクタリゼーションは,正方形状パターンの作製を明らかにし,原子間力顕微鏡(AFM)はPMMAマトリックスから外れたAgNPsの存在を観察する可能性を提供した。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 加速器 ,  相互作用 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察 ,  *陽子 ,  *陽子ビーム ,  *銀 ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  レジスト ,  フルエンス ,  原子間力顕微鏡 ,  *ナノ構造
準シソーラス用語： スポットサイズ ,  銀ナノ粒子 ,  ビーム電流 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (3件)： マイクロパターニング ,  PMMA ,  陽子ビーム書込み

分類 (3件)： 質量分析  (CC03013N) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  有機化合物の物理分析  (CC03034A)

タイトルに関連する用語 (7件)： 陽子ビーム ,  書込み ,  作製 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  銀 ,  ナノ構造 ,  埋め込み