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J-GLOBAL ID:202002296737485699   整理番号:20A2646738

新しい化学エッチング法を用いた低炭素鋼上の自己集合ビニルトリエトキシシラン(VS)膜の耐食性と機構解析の改善【JST・京大機械翻訳】

Improvement of corrosion resistance and mechanism analysis for self-assembled vinyltriethoxysilane (VS) films on low carbon steel using a novel chemical etching method
著者 (13件):
資料名:
巻: 177  ページ: Null  発行年: 2020年 
JST資料番号: B0135B  ISSN: 0010-938X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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耐食性と均一な厚さ(~2.8μm)を有するビニルトリエトキシシラン(VS)膜を,新しい化学エッチング法を用いて低炭素鋼上に作製した。エッチングした金属上に生じたfllm成形機構を,実験的および理論的方法によって研究した。結果は,H_2O_2含有エッチング液中で生成した金属ヒドロキシル化とマイクロ粗面が,自己集合膜の界面接着と保護性能の向上に寄与することを明らかにした。しかし,グレード1の高い接着性を有する緻密な界面層を形成する最適エッチング時間は約4分である。長いエッチングは形成したVS膜の逆劣化を引き起こす。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
分類
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腐食 

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