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J-GLOBAL ID：202002296867241545   整理番号：20A2458087

界面リグニンスルホン酸膜の粘弾性特性と添加電解質の効果【JST・京大機械翻訳】

Viscoelastic properties of interfacial lignosulfonate films and the effect of added electrolytes

著者 (3件)： Ruwoldt Jost (Ugelstad Laboratory, Department of Chemical Engineering, Norwegian University of Science and Technology (NTNU), Trondheim, Norway) ,  Simon Sebastien (Ugelstad Laboratory, Department of Chemical Engineering, Norwegian University of Science and Technology (NTNU), Trondheim, Norway) ,  Oye Gisle (Ugelstad Laboratory, Department of Chemical Engineering, Norwegian University of Science and Technology (NTNU), Trondheim, Norway)
資料名： Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects  (Colloids and Surfaces. A. Physicochemical and Engineering Aspects)
巻： 606  ページ： Null  発行年： 2020年 
JST資料番号： A0539B  ISSN： 0927-7757  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジ-および三価カチオンの存在下でリグノスルホナートの界面ゲル化を確認した新しい証拠を提示した。本論文では,水-キシレン界面でのリグノスルホン酸塩膜の粘弾性特性を,膨張界面レオロジーおよび界面剪断レオロジーによって研究した。両技法は,リグノスルホナート濃度の増加がまず増加し,次に界面弾性率を減少させることを示した。同じ傾向が塩分増加で観察された。最大界面弾性率はリグノスルホナート凝集または沈殿に対応し,最良のエマルション安定性を説明した。膜の強度は,カチオン電荷数とともに次第に増加した。多価カチオンがリグノスルホナート分子間の分子間架橋を提供し,それは膜強度を増加させ,ゲル化に導くことを論じた。高塩分における界面膜強度の減少は2つの機構によって説明された。(1)ナトリウムカチオンでは,高イオン強度での高分子電解質収縮は,官能基のスクリーニングをもたらし,それはリグノスルホナート分子または凝集体間の引力相互作用の原因であると考えられる。(2)カルシウムとアルミニウムカチオンでは,沈殿は有効バルク濃度を低下させ,より低い表面被覆率をもたらした。さらに,界面特性のモデル化を行い,リグノスルホナート吸着が拡散制御ではなく,リグノスルホナート凝集が吸着プロセスに影響を及ぼすことを示した。結論として,著者らの結果は,リグノスルホン酸塩の界面挙動と特性を支配する機構のより詳細な描像を明らかにした。Copyright 2020 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *界面 ,  吸着 ,  凝集 ,  剪断 ,  弾性係数 ,  *粘弾性 ,  レオロジー ,  アルミニウム ,  沈殿 ,  乳濁液 ,  ゲル化 ,  塩分 ,  カチオン ,  イオン強度
準シソーラス用語： 官能基 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： リグノスルホン酸塩 ,  膨張界面レオロジー ,  界面せん断レオロジー ,  フィルム安定性 ,  エマルション安定化 ,  病棟と東台

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (4件)： 界面 ,  リグニンスルホン酸 ,  粘弾性特性 ,  電解質