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J-GLOBAL ID：202002297250237583   整理番号：20A2529067

半導体工業におけるイソプロパノール汚染物質を分解するための高効率複合RGO/TiO_2光触媒【JST・京大機械翻訳】

High Effective Composite RGO/TiO₂ Photocatalysts to Degrade Isopropanol Pollutant in Semiconductor Industry

著者 (4件)： Lin Yu-Tang (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan) ,  Huang Chao-Wei (Department of Chemical and Materials Engineering, National Kaohsiung University of Science and Technology, Kaohsiung, Taiwan) ,  Wang Yen-Han (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan) ,  Wu Jeffrey C. S. (Department of Chemical Engineering, National Taiwan University, Taipei, Taiwan)
資料名： Topics in Catalysis  (Topics in Catalysis)
巻： 63  号： 11-14  ページ： 1240-1250  発行年： 2020年 
JST資料番号： W1435A  ISSN： 1022-5528  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究は,水熱法で調製したRGO/TiO_2光触媒の存在下での水性イソプロパノールの光分解に焦点を当てた。模擬太陽光AM1.5Gの照射下で,イソプロパノール分解の光触媒活性を研究した。さらに,種々の初期イソプロパノール濃度(20,40,60,80および100ppm)を光触媒反応に用いた。P25RGO-0.01%は,20ppmの初期イソプロパノール濃度で92.24%の最高イソプロパノール除去を与えることが分かった。還元酸化グラフェンのこのような最適負荷は電子捕獲として作用し,電子-正孔対の再結合の可能性を抑制した。さらに,アセトンは,主要な1つの中間体生成物のひとつであることが確認された。さらに,酸性条件は,ヒドロキシルラジカルとスーパーオキシドラジカルを形成するための好ましい条件のため,イソプロパノールの光分解に有利であることが分かった。リサイクル性試験も3つの逐次反応により検証し,触媒の無視できる減衰を示した。本研究は太陽光中のイソプロパノール廃水を除去する光触媒利用の実現可能性を実証した。Copyright Springer Science+Business Media, LLC, part of Springer Nature 2020 Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 再結合 ,  水熱合成 ,  *半導体 ,  廃水 ,  *汚染物質 ,  太陽光 ,  光分解 ,  ヒドロキシルラジカル ,  逐次反応 ,  光触媒反応 ,  *光触媒 ,  脂肪族ケトン
準シソーラス用語： 光触媒活性 ,  酸化グラフェン ,  スーパーオキシドラジカル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 光触媒 ,  二酸化チタン ,  還元した酸化グラフェン ,  イソプロパノール ,  半導体廃水

分類 (1件)： 光化学反応  (CB08020F)

物質索引 (1件)： アセトン

タイトルに関連する用語 (7件)： 半導体工業 ,  イソプロパノール ,  汚染物質 ,  分解 ,  高効率 ,  RGO ,  光触媒