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J-GLOBAL ID：202002298150319656   整理番号：20A2070634

ナノインプリントリソグラフィーにおける銀インクの処方のための銀(I)錯体[Ag_2(C_4H_6O_4N)NO_3]{H_2OおよびAg_6(C_6H_6O_6N)_2の合成と構造【JST・京大機械翻訳】

Synthesis and Structure of the Silver(I) Complexes [Ag₂(C₄H₆O₄N)NO₃]・H₂O and Ag₆(C₆H₆O₆N)₂ for the Formulation of Silver Inks in Nanoimprint Lithography

著者 (7件)： Kintzel Susann (Department of Inorganic Chemistry I, Technische Universitaet Dresden, Bergstr. 66, 01069, Dresden, Germany) ,  Eckhardt Kai (Infineon Technologies GmbH, Konigsbruecker Str. 10, 01099, Dresden, Germany) ,  Getzschmann Juergen (Department of Inorganic Chemistry I, Technische Universitaet Dresden, Bergstr. 66, 01069, Dresden, Germany) ,  Bon Volodymyr (Department of Inorganic Chemistry I, Technische Universitaet Dresden, Bergstr. 66, 01069, Dresden, Germany) ,  Grothe Julia (Department of Inorganic Chemistry I, Technische Universitaet Dresden, Bergstr. 66, 01069, Dresden, Germany) ,  Kaskel Stefan (Department of Inorganic Chemistry I, Technische Universitaet Dresden, Bergstr. 66, 01069, Dresden, Germany) ,  Kaskel Stefan (Fraunhofer Institute for Material and Beam Technology (IWS), Winterbergstr. 28, 01277, Dresden, Germany)
資料名： European Journal of Inorganic Chemistry  (European Journal of Inorganic Chemistry)
巻： 2020  号： 33  ページ： 3167-3173  発行年： 2020年 
JST資料番号： B0264C  ISSN： 1434-1948  CODEN： EJICFO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： IDA=イミノジアセテート(1)およびAg_6(C_6H_6O_6N)_2またはAg_6(NTA)_2とNTA=ニトリロトリアセテート(2)との2種類の新しいカルボン酸銀(I)錯体,すなわち[Ag_2(C_4H_6O_4N)]NO_3・H_2Oまたは[Ag_2(HIDA)]NO_3・H_2Oを合成し,粉末X線回折,熱分析および赤外分光法によって特性化した。Rietveld精密化は,[Ag_2(HIDA)]NO_3・H_2Oが2D配位ポリマーを形成する一方,Ag_6(NTA)_2は短いAg(d10)-Ag(d10)接触を特徴とする3Dネットワークを形成することを明らかにした。得られた錯体は,低温で銀構造の印刷に適した前駆体であり,特にナノインプリントリソグラフィーにより得られたマイクロおよびサブマイクロメータパターンであった。このパターンは,光電子デバイスへの応用を可能にする可視領域で,低い比抵抗(ρ≒10-7Ωm)と良好な透過率(>50%)を示した。Copyright 2020 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 低温 ,  電気抵抗率 ,  ネットワーク ,  *銀 ,  熱分析 ,  配位高分子 ,  透過率 ,  二次元 ,  前駆体 ,  三次元 ,  赤外分光法
準シソーラス用語： 可視領域 ,  *ナノインプリントリソグラフィー ,  粉末X線回折 ,  光電子デバイス , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 銀 ,  イミノ二酢酸 ,  ニトリロ二酢酸 ,  構造解明 ,  ナノインプリントリソグラフィー

分類 (2件)： 第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y) ,  遷移金属元素(鉄族元素を除く)の錯体の結晶構造  (BK09030X)

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノインプリントリソグラフィー ,  銀インク ,  処方 ,  銀 ,  錯体