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J-GLOBAL ID：202002298682741451   整理番号：20A2581052

半導体製造におけるプロセス制御のための機械学習の応用【JST・京大機械翻訳】

Application of Machine Learning for Process Control in Semiconductor Manufacturing

著者 (2件)： Wang Lei (Hitachi ABB Power Grids Research, Universal Plaza, Jiuxianqiao, Beijing, China) ,  Wang Yang (Hitachi ABB Power Grids Research Universal Plaza, Jiuxianqiao, Beijing, China)
資料名： ACM Proceedings  (ACM Proceedings)
号： ICICSE ’20  ページ： 109-111  発行年： 2020年 
JST資料番号： D0698C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本稿では,半導体製造時のコア品質検査を,生産効率と収率の観点から述べることを試みた。したがって,特別な焦点は,フロントエンドプロセスにおけるウエハパターンの作製のための最も重要なステップであるフォトリソグラフィーに与えられる。さらに,機械学習手法を実証し,半導体製造産業におけるそれらの適用性を論じた。また,半導体生産における先進プロセス制御のための仮想計測に関する技術的概念を,潜在的利用事例として紹介した。最後に,技術における現状と将来の傾向ならびに応用を,結論セクションにおける著者の展望に基づいてまとめた。Please refer to this article’s citation page on the publisher website for specific rights information. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： プロセス制御 ,  適応性 ,  半導体工業 ,  品質検査 ,  フォトリソグラフィー ,  *機械学習
準シソーラス用語： 生産効率 ,  *半導体製造 ,  FEOL , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 高度プロセス制御 ,  データ解析 ,  機械学習 ,  半導体製造 ,  仮想計測学

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 半導体製造 ,  プロセス制御 ,  機械学習 ,  応用