特許

J-GLOBAL ID：202003000002841251

ブロックコポリマーを含んでなるアモルファスシリコン形成組成物、およびそれを用いたアモルファスシリコン膜の製造方法

発明者： 中本 奈緒子 ,  藤原 嵩士 ,  佐藤 敦彦
出願人/特許権者： メルク、パテント、ゲゼルシャフト、ミット、ベシュレンクテル、ハフツング
代理人 (6件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  前川 英明 ,  遠藤 逸子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-223636
公開番号（公開出願番号）：特開2020-083728
出願日： 2018年11月29日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：

【課題】本発明による製造方法によると、基板との親和性が高く、埋め込み性に優れ、厚膜化も可能となる、アモルファスシリコン形成組成物を提供することができる。【解決手段】(a)ケイ素を5以上含んでなるポリシラン骨格を有する、直鎖または環状の、ブロックAと、ケイ素を20以上含んでなるポリシラザン骨格を有するブロックBとを含んでなる、ブロックコポリマー、および(b)溶媒を含んでなる、アモルファスシリコン形成組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)ケイ素を5以上含んでなるポリシラン骨格を有する、直鎖または環状の、ブロックAと、ケイ素を20以上含んでなるポリシラザン骨格を有するブロックBとを含んでなる、ブロックコポリマー、および (b)溶媒 を含んでなる、アモルファスシリコン形成組成物。

IPC (5件)：

C01B 33/02 ,  C08G 77/60 ,  C09D 1/00 ,  C09D 183/08 ,  C01B 21/068

FI (6件)：

C01B33/02 D ,  C08G77/60 ,  C09D1/00 ,  C09D183/08 ,  C01B21/068 Q ,  C01B21/068 Y

Fターム (46件)：

4G072AA03 ,  4G072BB09 ,  4G072BB13 ,  4G072FF09 ,  4G072GG03 ,  4G072HH03 ,  4G072HH33 ,  4G072LL15 ,  4G072MM01 ,  4G072NN21 ,  4G072RR01 ,  4G072RR12 ,  4G072RR30 ,  4G072UU01 ,  4J038AA011 ,  4J038DL081 ,  4J038NA12 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  4J246AA06 ,  4J246AA10 ,  4J246AB02 ,  4J246BB080 ,  4J246BB081 ,  4J246BB082 ,  4J246BB08X ,  4J246BB450 ,  4J246BB451 ,  4J246BB45X ,  4J246CA010 ,  4J246CA01X ,  4J246CA030 ,  4J246CA140 ,  4J246CA390 ,  4J246FA141 ,  4J246FA431 ,  4J246FA571 ,  4J246FE04 ,  4J246FE07 ,  4J246FE18 ,  4J246GA01 ,  4J246GB04 ,  4J246GC54 ,  4J246GD08 ,  4J246HA66 ,  4J246HA70