特許
J-GLOBAL ID:202003000948143732
炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
棚井 澄雄
, 寺本 光生
, 川渕 健一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-164608
公開番号(公開出願番号):特開2020-037521
出願日: 2018年09月03日
公開日(公表日): 2020年03月12日
要約:
【課題】炭素数が7以下の炭化水素を主成分とする軽質炭化水素を原料として、高い収率で炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素を製造できる製造方法の提供。【解決手段】炭素数2〜7の軽質炭化水素を主成分とする原料を、炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素製造用触媒組成物に接触させることを含む炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素の製造方法であって、前記炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素製造用触媒組成物は、非晶質である酸化ケイ素化合物により被覆され、結晶性アルミノシリケートを含有し、 前記酸化ケイ素化合物は、XnSi(OR)4-n(Xは水素原子又はアルキル基を表し、Rはアルキル基を表し、nは0〜4の整数を表す)で表される化合物に由来する酸化ケイ素化合物である、炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素の製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
炭素数2〜7の軽質炭化水素を主成分とする原料を、炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素製造用触媒組成物に接触させることを含む炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素の製造方法であって、
前記炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素製造用触媒組成物は、非晶質である酸化ケイ素化合物により被覆され、結晶性アルミノシリケートを含有し、
前記酸化ケイ素化合物は、下記一般式(1)で表される化合物に由来する酸化ケイ素化合物である、
炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素の製造方法。
XnSi(OR)4-n ・・・(1)
[式中、Xは水素原子又はアルキル基を表し、Rはアルキル基を表し、nは0〜4の整数を表す。]
IPC (7件):
C07C 2/12
, B01J 29/40
, C07C 15/04
, C07C 15/06
, C07C 15/067
, C07C 2/76
, C10G 35/095
FI (7件):
C07C2/12
, B01J29/40 Z
, C07C15/04
, C07C15/06
, C07C15/067
, C07C2/76
, C10G35/095
Fターム (62件):
4G169AA02
, 4G169AA09
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA07A
, 4G169BA07B
, 4G169BC17A
, 4G169BC17B
, 4G169BE06C
, 4G169BE32C
, 4G169CB66
, 4G169CC04
, 4G169DA06
, 4G169EA02Y
, 4G169EC27
, 4G169FB14
, 4G169FB30
, 4G169FB64
, 4G169FC02
, 4G169FC08
, 4G169ZA10A
, 4G169ZA11B
, 4G169ZA46A
, 4G169ZA46B
, 4G169ZC04
, 4G169ZC06
, 4G169ZD09
, 4G169ZE04
, 4G169ZF01B
, 4H006AA02
, 4H006AC21
, 4H006AC23
, 4H006AC28
, 4H006BA09
, 4H006BA71
, 4H006DA12
, 4H039CA11
, 4H039CA12
, 4H039CA41
, 4H039CD10
, 4H039CF10
, 4H039CH10
, 4H039CK20
, 4H129AA03
, 4H129CA02
, 4H129CA04
, 4H129DA12
, 4H129KA03
, 4H129KB03
, 4H129KC04X
, 4H129KC04Y
, 4H129KC13X
, 4H129KC16X
, 4H129KC16Y
, 4H129KC17X
, 4H129KC18Y
, 4H129KC19X
, 4H129KC19Y
, 4H129KD31X
, 4H129KD31Y
, 4H129NA27
, 4H129NA37
引用特許:
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