特許
J-GLOBAL ID:202003001106458707

フルオロスルホニルイミド化合物の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (8件): 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  酒巻 順一郎 ,  植木 久一 ,  植木 久彦 ,  菅河 忠志 ,  伊藤 浩彰 ,  柴田 有佳理
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-019284
公開番号(公開出願番号):特開2016-145147
特許番号:特許第6645855号
出願日: 2016年02月03日
公開日(公表日): 2016年08月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記一般式(1)で表されるフルオロスルホニルイミド化合物の製造方法であって、 (一般式(1)中、R1はF、又は炭素数1〜6のフルオロアルキル基を表し、Cat1+はR2R3R4R5N+で表される1価のカチオンを表し、R2〜R5は同一又は異なって、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す) 一般式(2)で表される化合物と、 (一般式(2)中、R6はハロゲン、又は炭素数1〜6のフルオロアルキル基を表し、Cat2+は水素イオン、又はR2R3R4R5N+で表される1価のカチオンを表し、R2〜R5は一般式(1)と同一である) 一般式(2)で表される化合物1molに対して、化学量論量で1当量以上、3当量以下の一般式(3):NH4F(HF)p(一般式(3)中、pは1〜10の整数を表す)で表される化合物を、 一般式(2)で表される化合物の0〜4質量倍の溶媒の存在下で反応させることを特徴とするフルオロスルホニルイミド化合物の製造方法。
IPC (1件):
C01B 21/093 ( 200 6.01)
FI (1件):
C01B 21/093 Z
引用特許:
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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