特許
J-GLOBAL ID:202003001250935765

ポリイソシアネートの連続希釈

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (16件): 小野 誠 ,  金山 賢教 ,  坪倉 道明 ,  重森 一輝 ,  安藤 健司 ,  市川 英彦 ,  青木 孝博 ,  櫻田 芳恵 ,  川嵜 洋祐 ,  五味渕 琢也 ,  今藤 敏和 ,  飯野 陽一 ,  市川 祐輔 ,  森山 正浩 ,  岩瀬 吉和 ,  城山 康文
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2019-571653
公開番号(公開出願番号):特表2020-525597
出願日: 2018年07月02日
公開日(公表日): 2020年08月27日
要約:
本発明は、イソシアネート基と比較して不活性である少なくとも1つの溶媒を少なくとも1つのポリイソシアネートに添加することからなる、ポリイソシアネート組成物の製造方法であって、溶媒の添加が1つ以上のステップで行われ、これらのステップの少なくとも1つが連続希釈であることを特徴とする方法に関する。本発明は、前記方法により得られたポリイソシアネート組成物、ポリイソシアネート組成物の使用、ポリイソシアネート組成物を含有する二成分系及び二成分系を使用して製造される複合系にも関する。
請求項(抜粋):
少なくとも1つのイソシアネート不活性溶媒を少なくとも1つのポリイソシアネートに添加することを含む、ポリイソシアネート組成物の製造方法であって、前記溶媒の添加が1つ以上の段階で行われ、これらの段階の少なくとも1つが連続希釈として行われることを特徴とする、方法。
IPC (7件):
C08G 18/02 ,  C08G 18/79 ,  C08G 18/42 ,  C09D 201/00 ,  C09J 11/06 ,  C09J 201/00 ,  C09J 199/00
FI (7件):
C08G18/02 020 ,  C08G18/79 010 ,  C08G18/42 ,  C09D201/00 ,  C09J11/06 ,  C09J201/00 ,  C09J199/00
Fターム (72件):
4J034AA04 ,  4J034CA03 ,  4J034CA04 ,  4J034CA05 ,  4J034CB03 ,  4J034CB04 ,  4J034CB05 ,  4J034DA01 ,  4J034DB04 ,  4J034DB05 ,  4J034DF01 ,  4J034DF02 ,  4J034DG03 ,  4J034DG04 ,  4J034DL01 ,  4J034DP18 ,  4J034DP19 ,  4J034DQ04 ,  4J034DQ28 ,  4J034EA12 ,  4J034GA06 ,  4J034HA01 ,  4J034HA02 ,  4J034HA06 ,  4J034HA07 ,  4J034HB07 ,  4J034HC03 ,  4J034HC12 ,  4J034HC13 ,  4J034HC17 ,  4J034HC22 ,  4J034HC35 ,  4J034HC46 ,  4J034HC52 ,  4J034HC53 ,  4J034HC54 ,  4J034HC61 ,  4J034HC64 ,  4J034HC67 ,  4J034HC71 ,  4J034HC73 ,  4J034JA14 ,  4J034JA30 ,  4J034JA37 ,  4J034JA42 ,  4J034KA01 ,  4J034KA02 ,  4J034KB03 ,  4J034KC02 ,  4J034KD04 ,  4J034KD07 ,  4J034KD11 ,  4J034KD12 ,  4J034KD15 ,  4J034KD17 ,  4J034KD24 ,  4J034KE02 ,  4J034KE03 ,  4J034QA02 ,  4J034QA05 ,  4J034QB10 ,  4J034QB13 ,  4J034QC05 ,  4J034RA07 ,  4J034RA08 ,  4J034RA09 ,  4J034RA10 ,  4J038DG232 ,  4J038KA03 ,  4J038NA06 ,  4J040HC16 ,  4J040KA16
引用特許:
審査官引用 (3件)

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