特許

J-GLOBAL ID：202003001327252119

ガス分離膜

発明者： 藤田 明士 ,  浅野 修司 ,  金島 琢真 ,  服部 勇作
出願人/特許権者： 次世代型膜モジュール技術研究組合
代理人 (3件)： 田中 光雄 ,  山田 卓二 ,  森住 憲一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-060192
公開番号（公開出願番号）：特開2017-170353
特許番号：特許第6779642号
出願日： 2016年03月24日
公開日（公表日）： 2017年09月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 カルボキシル基を有する非架橋ビニルアルコール系共重合体(A)、及びアルカリ金属化合物(B)を含む樹脂組成物から構成されるガス分離膜であって、該共重合体(A)は、カルボキシル基を有する単量体単位及びビニルアルコール系単量体単位から構成されるブロック又はグラフト共重合体であり、 該ガス分離膜はさらに支持膜を備え、前記樹脂組成物が該支持膜に担持されている、ここで該支持膜は、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、ポリスチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ塩化ビニルまたはポリメタクリル酸メチルを含む多孔性の高分子膜である、ガス分離膜。

IPC (11件)：

B01D 71/38 ( 200 6.01) ,  B01D 71/02 ( 200 6.01) ,  B01D 71/44 ( 200 6.01) ,  B01D 71/52 ( 200 6.01) ,  B01D 71/40 ( 200 6.01) ,  B01D 71/80 ( 200 6.01) ,  B01D 71/78 ( 200 6.01) ,  B01D 69/10 ( 200 6.01) ,  B01D 69/12 ( 200 6.01) ,  B01D 53/22 ( 200 6.01) ,  B01D 71/60 ( 200 6.01)

FI (11件)：

B01D 71/38 ,  B01D 71/02 500 ,  B01D 71/44 ,  B01D 71/52 ,  B01D 71/40 ,  B01D 71/80 ,  B01D 71/78 ,  B01D 69/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/60

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 複合体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-251965   出願人：富士フイルム株式会社
• 酸性ガス分離複合膜の製造方法及び酸性ガス分離膜モジュール
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-026265   出願人：富士フイルム株式会社
• 特公平7-102310
  
• ガス分離膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-069837   出願人：次世代型膜モジュール技術研究組合