パターン検査装置及びパターン検査方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：池上徹真 , 須藤章 , 高下雅弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-216474
公開番号（公開出願番号）：特開2020-085527
出願日： 2018年11月19日
公開日（公表日）： 2020年06月04日
要約：

【目的】欠陥個所のデータ量が大きい場合でも、検査時間の増大を低減可能な検査装置を提供する。【構成】本発明の一態様のパターン検査装置は、複数の図形パターンが形成された基板から複数の領域の光学画像を取得する光学画像取得機構と、複数の領域の光学画像に対応する複数の参照画像を用いて、対応する光学画像と参照画像との比較処理を複数の領域の少なくとも一部の領域間で並列処理する複数の比較部と、比較の結果、欠陥と判定された欠陥画像データの転送を受け、転送されたデータを基に欠陥情報を生成する少なくとも1つの欠陥情報生成部と、欠陥情報の生成処理状況に応じて、欠陥画像データの転送順序とタイミングを決定する転送部と、を備えたことを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の図形パターンが形成された基板から複数の領域の光学画像を取得する光学画像取得機構と、前記複数の領域の光学画像に対応する複数の参照画像を用いて、対応する光学画像と参照画像との比較処理を前記複数の領域の少なくとも一部の領域間で並列処理する複数の比較部と、比較の結果、欠陥と判定された欠陥画像データの転送を受け、転送されたデータを基に欠陥情報を生成する少なくとも1つの欠陥情報生成部と、前記欠陥情報の生成処理状況に応じて、前記欠陥画像データの転送順序とタイミングを決定する転送部と、を備えたことを特徴とするパターン検査装置。

IPC (4件)：

G01N 21/956 , G03F 1/84 , G03F 7/20 , H01L 21/66

FI (4件)：

G01N21/956 A , G03F1/84 , G03F7/20 521 , H01L21/66 J

Fターム (34件)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051BA05 , 2G051BA10 , 2G051CA03 , 2G051CB01 , 2G051CB02 , 2G051CB03 , 2G051DA07 , 2G051DA08 , 2G051EA08 , 2G051EA12 , 2G051EA14 , 2G051EB01 , 2G051ED04 , 2G051ED11 , 2H195BD04 , 2H195BD17 , 2H195BD28 , 2H197HA03 , 2H197HA05 , 2H197JA18 , 4M106AA01 , 4M106AA09 , 4M106CA39 , 4M106DB04 , 4M106DB08 , 4M106DG16 , 4M106DH32 , 4M106DJ04 , 4M106DJ06 , 4M106DJ21 , 4M106DJ32

引用特許：

審査官引用 (6件)

パターン検査方法及びパターン検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-171293 出願人：日本電気株式会社
画像欠陥検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-210932 出願人：株式会社東京精密
外観検査装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-006961 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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