特許
J-GLOBAL ID：202003001774967079

ろ過膜、ろ過膜の製造方法及び表面処理剤

発明者：
山村 寛

山村 寛 について


出願人/特許権者：
学校法人 中央大学

学校法人 中央大学 について


代理人 (4件)： 本多 一郎 ,  杉本 由美子 ,  渡耒 巧 ,  大田黒 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-160846
公開番号（公開出願番号）：特開2020-032358
出願日： 2018年08月29日
公開日（公表日）： 2020年03月05日
要約：
【課題】膜ファウリングの解消のための酸化処理による脱塩率の低下を抑制し、仮に脱塩率が低下しても脱塩率を回復させることができ、脱塩率の低下の抑制の効果を長期間維持することができる、ろ過膜、ろ過膜の製造方法及び表面処理剤を提供する。【解決手段】ポリアミド系ろ過膜と、該ポリアミド系ろ過膜の少なくとも一表面に固着されたカチオンポリマー層と、を備えたろ過膜。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
ポリアミド系ろ過膜と、該ポリアミド系ろ過膜の少なくとも一表面に固着されたカチオンポリマー層と、を備えたことを特徴とするろ過膜。
IPC (4件)：
B01D 71/56 ,  B01D 69/12 ,  C02F 1/44 ,  B01D 65/08
FI (4件)：
B01D71/56 ,  B01D69/12 ,  C02F1/44 C ,  B01D65/08
Fターム (21件)：
4D006GA03 ,  4D006GA06 ,  4D006KA03 ,  4D006KA41 ,  4D006KD22 ,  4D006KD24 ,  4D006KD30 ,  4D006MA10 ,  4D006MB02 ,  4D006MC21 ,  4D006MC38 ,  4D006MC48 ,  4D006MC60X ,  4D006MC75 ,  4D006MC77X ,  4D006MC90 ,  4D006NA54 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB03 ,  4D006PB08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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