特許

J-GLOBAL ID：202003001833161792

成膜装置

発明者： 鈴木 基史 ,  鐘川 美沙 ,  名村 今日子 ,  波多野 直也 ,  佐藤 佑樹
出願人/特許権者： 国立大学法人京都大学
代理人 (1件)： 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-015174
公開番号（公開出願番号）：特開2020-122193
出願日： 2019年01月31日
公開日（公表日）： 2020年08月13日
要約：

【課題】転動体に均一な薄膜を形成することができる成膜装置を提供する。【解決手段】転動体Rを収容する収容器3と、前記収容器3に収容された前記転動体Rへの成膜を行うスパッタガン5と、を備えた成膜装置1であって、前記収容器3は、前記転動体Rを載置するための載置面311と、前記載置面311に対し前記転動体Rが通過しない隙間を空けて前記載置面311上に設けられ、前記転動体Rの前記載置面311への追随を阻害するスポーク32と、前記載置面311をスポーク32に対し相対移動させる移動手段と、を備えた、成膜装置1。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

転動体を収容する収容器と、 前記収容器に収容された前記転動体への成膜を行う成膜手段と、 を備えた成膜装置であって、 前記収容器は、 前記転動体を載置するための載置面と、 前記載置面に対し前記転動体が通過しない隙間を空けて前記載置面上に設けられ、前記転動体の前記載置面への追随を阻害する追随阻害手段と、 前記載置面を前記追随阻害手段に対し相対移動させる移動手段と、 を備えた、成膜装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 ,  C23C 14/34

FI (2件)：

C23C14/50 K ,  C23C14/34 J

Fターム (14件)：

4K029AA02 ,  4K029AA22 ,  4K029BA04 ,  4K029BA46 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA05 ,  4K029CA17 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC35 ,  4K029DC39 ,  4K029JA02