特許
J-GLOBAL ID:202003002868079033

化学蒸着用原料、ならびに、化学蒸着用原料入り遮光容器およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 木下 茂 ,  澤田 優子
公報種別:再公表公報
出願番号(国際出願番号):JP2018021318
公開番号(公開出願番号):WO2018-225668
出願日: 2018年06月04日
公開日(公表日): 2018年12月13日
要約:
化学蒸着(CVD)により、酸化インジウム薄膜を製造するための原料であって、長期間の保存が可能で、化学蒸着を行うに際して、使用時の取り扱いが容易な化学蒸着用原料およびその保存方法を提供する。アルキルシクロペンタジエニルインジウム(I)(C5H4R1-In)を主成分とし、アルキルシクロペンタジエン(C5H5R2)、ジアルキルシクロペンタジエン((C5H5R3)2)、トリスアルキルシクロペンタジエニルインジウム(III)((C5H4R4)3-In)、およびトリスシクロペンタジエニルインジウム(III)のいずれか一種以上を副成分として含有し(R1〜R4はそれぞれ炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)、実質的に溶媒を含まないことを特徴とする化学蒸着用原料。
請求項(抜粋):
アルキルシクロペンタジエニルインジウム(I)(C5H4R1-In;R1は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)を主成分として、 アルキルシクロペンタジエン(C5H5R2;R2は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)、ジアルキルシクロペンタジエン((C5H5R3)2;R3は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)、トリスアルキルシクロペンタジエニルインジウム(III)((C5H4R4)3-In;R4は炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。)、およびトリスシクロペンタジエニルインジウム(III)のいずれか一種以上を副成分として含有し、 実質的に溶媒を含まないことを特徴とする化学蒸着用原料。
IPC (3件):
C23C 16/40 ,  C07F 5/00 ,  C07F 17/00
FI (3件):
C23C16/40 ,  C07F5/00 J ,  C07F17/00
Fターム (11件):
4H048AA03 ,  4H048AB91 ,  4H048VA86 ,  4H048VB10 ,  4H050AA03 ,  4H050AB91 ,  4K030AA11 ,  4K030BA11 ,  4K030BA42 ,  4K030EA00 ,  4K030KA45

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