中間層の複合基板

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：園田・小林特許業務法人
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-236290
公開番号（公開出願番号）：特開2014-111830
特許番号：特許第6636682号
出願日： 2013年11月14日
公開日（公表日）： 2014年06月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】実質的にシリコンオキシカーバイドの中間層であって、基板隣接層および表面隣接層を含み、前記基板隣接層および前記表面隣接層から前記シリコンオキシカーバイドと関連する炭素および酸素の濃度傾斜を有する、中間層を複合材料の基板の表面に堆積することと、前記中間層の上に、高エネルギー被覆または高温被覆を溶射により行うことと、を含み、高エネルギー被覆または高温被覆の間、前記複合材料の基板の表面が少なくとも部分的に保護される、方法。

IPC (2件)：