特許

J-GLOBAL ID：202003003218522745

加熱装置およびターボ分子ポンプ

発明者： 望月 勉 ,  千葉 一弘 ,  村上 良 ,  三浦 和幸
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-081419
公開番号（公開出願番号）：特開2017-190744
特許番号：特許第6664269号
出願日： 2016年04月14日
公開日（公表日）： 2017年10月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 プラズマ処理装置内のガスを排気するターボ分子ポンプ内の部材を加熱する加熱装置であって、 前記ターボ分子ポンプの筐体の側壁に設けられている開口内に配置されており、一端が前記部材に固定されており、他端が前記筐体の外部に露出している伝熱管と、 前記伝熱管の内部に設けられており、前記伝熱管を介して前記部材を加熱するヒータと、 前記伝熱管と前記筐体の開口との間に、前記伝熱管の外周面に沿って環状に配置されている第1のシール部材と、 前記伝熱管と前記筐体の開口との間に、前記伝熱管の外周面に沿って環状に配置されており、前記第1のシール部材よりも前記部材側に配置されている第2のシール部材と を備え、 前記伝熱管は、 前記筐体の内部側に配置される第1の部分と前記筐体の外部側に配置される前記第1の部分より直径が大きい第2の部分とを有し、 前記第2のシール部材は、 前記第1の部分の外周面と前記筐体の前記開口との間に設けられ、 前記ターボ分子ポンプが排気するガスに含まれるラジカルが前記伝熱管と前記筐体の開口との間に侵入することを抑制することを特徴とする加熱装置。

IPC (1件)：

F04D 19/04 ( 200 6.01)

FI (1件)：

F04D 19/04 G

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 真空ポンプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-114997   出願人：株式会社島津製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-177238   出願人：松下電器産業株式会社
• 半導体装置の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-032788   出願人：セイコーエプソン株式会社
• クライオポンプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-148468   出願人：三洋電機株式会社

審査官引用 (3件)

• 真空ポンプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2014-114997   出願人：株式会社島津製作所
• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-177238   出願人：松下電器産業株式会社
• 半導体装置の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-032788   出願人：セイコーエプソン株式会社