特許
J-GLOBAL ID:202003003247467885
導電性配線基板の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
舘野 千惠子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-102392
公開番号(公開出願番号):特開2017-212250
特許番号:特許第6736973号
出願日: 2016年05月23日
公開日(公表日): 2017年11月30日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板上に金属ナノ粒子を含むインクを塗布し、第一の膜を前記基板上に形成する工程と、
前記第一の膜の一部を選択的に焼成し、焼成部位と非焼成部位とを有する第二の膜を形成する工程と、
前記第二の膜の非焼成部位を前記基板から除去し、前記基板上に焼成部位で構成されている第三の膜を形成する工程と
を有し、
前記第二の膜の非焼成部位の除去方法は、前記焼成部位及び前記非焼成部位に対して一括して光照射を行う方法であることを特徴とする導電性配線基板の製造方法。
IPC (1件):
FI (2件):
H05K 3/08 Z
, H05K 3/08 D
引用特許:
出願人引用 (4件)
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金属インク
公報種別:公表公報
出願番号:特願2010-509476
出願人:アプライド・ナノテック・ホールディングス・インコーポレーテッド, 石原薬品株式会社
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レーザ照射を用いた導電性回路形成方法と導電性回路
公報種別:公開公報
出願番号:特願2004-215478
出願人:住友電気工業株式会社
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導電性基板、導電性基板の製造装置および導電性基板の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2014-143938
出願人:東芝機械株式会社
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金属インク
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-262239
出願人:アプライド・ナノテック・ホールディングス・インコーポレーテッド, 石原ケミカル株式会社
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審査官引用 (4件)