膜濾過浄化のためのペルオキシギ酸組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人YKI国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-549433
特許番号：特許第6728382号
出願日： 2016年12月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】膜システム上の微生物及び鉱物堆積物を除去するための方法であって、前記膜を、ペルオキシギ酸、ギ酸、及び過酸化水素を含むペルオキシギ酸組成物と接触させることであって、前記ペルオキシギ酸組成物が、膜適合性であり、前記膜の流束の減少によって測定されるときに前記膜を損傷させずに、接触させ、前記ペルオキシギ酸組成物が、ギ酸を過酸化水素と接触させることによってインサイチュで生成され、前記ギ酸の濃度(重量/体積)と前記過酸化水素の濃度(重量/体積)との間の比が、約2以上であることと、形成された、結果として生じる前記ペルオキシギ酸組成物中の前記ペルオキシギ酸の濃度(重量/重量)と過酸化水素の濃度(重量/重量)との間の比が、前記接触の約1時間以内に約2以上に達することと、前記膜上のバイオフィルムを含む微生物成長を除去し、鉱物堆積物を溶解することと、を含む、方法。

IPC (19件)：

B01D 65/06 ( 200 6.01) , B01D 71/10 ( 200 6.01) , B01D 71/16 ( 200 6.01) , B01D 71/12 ( 200 6.01) , B01D 71/68 ( 200 6.01) , B01D 71/56 ( 200 6.01) , B01D 71/34 ( 200 6.01) , B01D 71/36 ( 200 6.01) , B01D 71/42 ( 200 6.01) , B01D 71/26 ( 200 6.01) , B01D 71/02 ( 200 6.01) , B01D 65/02 ( 200 6.01) , C11D 7/18 ( 200 6.01) , C11D 7/26 ( 200 6.01) , C11D 7/38 ( 200 6.01) , C11D 3/39 ( 200 6.01) , C11D 3/20 ( 200 6.01) , C11D 7/42 ( 200 6.01) , C11D 3/386 ( 200 6.01)

FI (19件)：

B01D 65/06 , B01D 71/10 , B01D 71/16 , B01D 71/12 , B01D 71/68 , B01D 71/56 , B01D 71/34 , B01D 71/36 , B01D 71/42 , B01D 71/26 , B01D 71/02 , B01D 65/02 , C11D 7/18 , C11D 7/26 , C11D 7/38 , C11D 3/39 , C11D 3/20 , C11D 7/42 , C11D 3/386

引用特許：

出願人引用 (2件)

除菌洗浄剤組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-394080 出願人：アムテック株式会社
特開昭60-175504

審査官引用 (3件)

除菌洗浄剤組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-394080 出願人：アムテック株式会社
特開昭60-175504
特開昭60-175504

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