特許

J-GLOBAL ID：202003003811239561

洗浄方法及び洗浄システム

発明者： 山平 聖 ,  佐藤 直行 ,  道菅 隆
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 伊東 忠重 ,  伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-205636
公開番号（公開出願番号）：特開2020-072190
出願日： 2018年10月31日
公開日（公表日）： 2020年05月07日
要約：

【課題】処理容器内の部材に付着した金属または金属含有物を効率的に除去することができる技術を提供する。【解決手段】処理容器内で用いられ、金属または金属含有物が付着した部材を帯電させる工程と、帯電した前記部材を洗浄薬液に浸漬し、該部材の表面に付着した金属を除去する工程と、を有する洗浄方法が提供される。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

処理容器内で用いられ、金属または金属含有物が付着した部材を帯電させる工程と、 帯電した前記部材を洗浄薬液に浸漬し、該部材の表面に付着した金属を除去する工程と、 を有する洗浄方法。

IPC (1件)：

H01L 21/306

FI (1件)：

H01L21/302 101H

Fターム (11件)：

5F004AA15 ,  5F004BA09 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD07