特許

J-GLOBAL ID：202003003858995194

凹凸補正化粧料

発明者： 森川 貴行
出願人/特許権者： 日本メナード化粧品株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-236978
公開番号（公開出願番号）：特開2020-097552
出願日： 2018年12月19日
公開日（公表日）： 2020年06月25日
要約：

【課題】小皺や毛穴等の肌の凹凸を自然にぼかして目立ちにくくし、肌に伸ばしやすくなじみも良く、さらさらとした使用感に優れ、経時安定性にも優れたマイクロプラスチックビーズを含まない凹凸補正化粧料を提供する。【解決手段】本発明は、次の成分(a)〜(d):(a)煙霧状疎水化シリカ6〜10重量%、(b)オクタメチルトリシロキサン及び/又はデカメチルテトラシロキサン5〜20重量%、(c)バチルアルコール、(d)マイクロプラスチックビーズを含まない(a)以外の粉末10〜30重量%を含有することを特徴とするマイクロプラスチックビーズを含有しない凹凸補正化粧料である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

次の成分(a)〜(d): (a)煙霧状疎水化シリカ6〜10重量% (b)オクタメチルトリシロキサン及び/又はデカメチルテトラシロキサン5〜20重量% (c)バチルアルコール (d)マイクロプラスチックビーズを含まない(a)以外の粉末10〜30重量% を含有することを特徴とするマイクロプラスチックビーズを含有しない凹凸補正化粧料。

IPC (4件)：

A61K 8/25 ,  A61K 8/58 ,  A61K 8/34 ,  A61Q 1/02

FI (4件)：

A61K8/25 ,  A61K8/58 ,  A61K8/34 ,  A61Q1/02

Fターム (24件)：

4C083AB171 ,  4C083AB172 ,  4C083AB212 ,  4C083AB232 ,  4C083AB242 ,  4C083AC171 ,  4C083AC172 ,  4C083AC352 ,  4C083AC422 ,  4C083AC911 ,  4C083AC912 ,  4C083AD042 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD161 ,  4C083AD162 ,  4C083AD172 ,  4C083BB22 ,  4C083BB23 ,  4C083CC06 ,  4C083DD23 ,  4C083DD30 ,  4C083EE06 ,  4C083EE09