特許

J-GLOBAL ID：202003004297093729

プラズマリアクタ及びプラズマリアクタでのダイヤモンドライクカーボンの堆積又は処理

発明者： ヤン ヤン ,  ラマスワミー カーティク ,  コリンズ ケネス エス ,  レーン スティーブン ,  モンロイ ゴンザロ アントニオ ,  チェン ルーシー ,  グオ ユエ ,  ベンカタスブラマニアン エスワラナンド
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 安齋 嘉章
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-551678
公開番号（公開出願番号）：特表2020-514554
出願日： 2018年03月14日
公開日（公表日）： 2020年05月21日
要約：

チャンバ内のワークピース上にダイヤモンドライクカーボンを堆積させる方法は、チャンバの天井から吊り下げられた上部電極に面する、チャンバ内のワークピースを支持する工程と、炭化水素ガスをチャンバに導入する工程と、上部電極に第1周波数で第1高周波電力を印加して、この高周波電力によってチャンバ内でプラズマを生成し、ワークピース上にダイヤモンドライクカーボンの堆積物を生成する工程とを含む。高周波電力を印加することで、上部電極からワークピースに向かう電子ビームを生成して、炭化水素ガスのイオン化を増進する。

請求項（抜粋）：

側壁を有するプラズマチャンバと、 上部電極と、 上部電極に面したワークピースを保持するワークピース支持体であって、支持体上のワークピースから上部電極がはっきりと見えている支持体と、 前記上部電極に接続された第1高周波電源と、 ガス供給部と、 チャンバに接続されて、チャンバを排気する真空ポンプと、 コントローラであって、 第1高周波電源を操作して、高周波電力を上部電極に印加するように、及び ガス分配器と真空ポンプを操作して、 上部電極からワークピースに向かう電子ビームを生成させる、チャンバの上部のプラズマと、 ワークピースを含むチャンバの下部の低電子温度プラズマとを 作り出すように構成されたコントローラとを備える電子ビームプラズマリアクタ。

IPC (4件)：

C23C 16/513 ,  C23C 16/27 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/31

FI (4件)：

C23C16/513 ,  C23C16/27 ,  H05H1/46 A ,  H01L21/31 C

Fターム (27件)：

2G084AA05 ,  2G084AA12 ,  2G084BB03 ,  2G084CC05 ,  2G084CC18 ,  2G084DD14 ,  2G084DD38 ,  2G084DD55 ,  2G084FF02 ,  2G084FF19 ,  2G084FF27 ,  2G084FF28 ,  2G084FF29 ,  4K030AA09 ,  4K030AA16 ,  4K030BA28 ,  4K030FA01 ,  4K030GA02 ,  4K030JA09 ,  4K030KA20 ,  5F045AA08 ,  5F045AB07 ,  5F045AC07 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045EH14 ,  5F045EH19