特許
J-GLOBAL ID：202003004361109600
膜基板生産方法及び基板
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
羽立 章二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-202318
公開番号（公開出願番号）：特開2020-068364
出願日： 2018年10月26日
公開日（公表日）： 2020年04月30日
要約：
【課題】 鉛を含まず、かつ、従来よりも希少金属を使用せずに、高温下で動作可能な膜を作製して膜基板を生産する膜基板生産方法等を提案する。【解決手段】 基板に、鉛を含まない粉末と、鉛も希少金属も含まないゾルゲル溶液の混合体を用いて膜を作製して、膜基板を生産する。ここで、粉末は、例えばBi4Ti3O12の粉末である。ゾルゲル溶液は、例えばAl2O3のゾルゲル溶液である。ゾルゲル溶液に希少金属を含まないため、従来と比較して希少金属を使用しない。さらに、室温下で、前記膜に対して分極処理を行うことができる。高温での分極処理を必要としない。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板に粉末とゾルゲル溶液の混合体を用いて膜を作製して膜基板を生産する作製ステップを含む膜基板を生産する膜基板生産方法であって、
前記粉末は、鉛を含まず、
前記ゾルゲル溶液は、Al2O3のゾルゲル溶液である、膜基板生産方法。
IPC (4件)：
H01L 41/318
, H01L 41/113
, H01L 41/187
, H01L 41/257
H01L41/318
, H01L41/113
, H01L41/187
, H01L41/257
