特許

J-GLOBAL ID：202003004399852462

露光用光源装置

発明者： 三浦 雄一 ,  林 賢志
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-228435
公開番号（公開出願番号）：特開2020-091398
出願日： 2018年12月05日
公開日（公表日）： 2020年06月11日
要約：

【課題】複数の半導体レーザ光源を用いて、均一な位置分布及び角度分布の光を供給する露光用光源装置を提供する。【解決手段】露光用光源装置1は、複数の半導体レーザ光源11と、半導体レーザ光源から出射された光線束を、略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系12と、複数のコリメート光学系から出射された複数の光線束が入射され、それぞれを発散する光線束に変換して出射する拡散光学系13と、拡散光学系から出射された光線束を集光する集光光学系14と、をそれぞれに含んでなる、複数の半導体レーザユニットと、複数の半導体レーザユニットから出射された複数の光線束が集光する位置に入射面16が配置された、インテグレータ光学系15とを備え、拡散光学系は、異なる半導体レーザ光源から出射された光線束の少なくとも一部分が集光光学系の入射面上で重なり合う位置に配置されている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の半導体レーザ光源と、 前記半導体レーザ光源から出射された光線束を、略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系と、 前記複数のコリメート光学系から出射された複数の光線束が入射され、それぞれを発散する光線束に変換して出射する拡散光学系と、 前記拡散光学系から出射された光線束を集光する集光光学系と、をそれぞれに含んでなる、複数の半導体レーザユニットと、 前記複数の半導体レーザユニットから出射された複数の光線束が集光する位置に入射面が配置された、インテグレータ光学系とを備え、 前記拡散光学系は、異なる前記半導体レーザ光源から出射された光線束の少なくとも一部分が前記集光光学系の入射面上で重なり合う位置に配置されていることを特徴とする露光用光源装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ,  H05K 3/00

FI (2件)：

G03F7/20 505 ,  H05K3/00 H

Fターム (9件)：

2H197AA04 ,  2H197AA05 ,  2H197BA10 ,  2H197CA07 ,  2H197CA17 ,  2H197CB12 ,  2H197CB16 ,  2H197CB26 ,  2H197HA02