特許
J-GLOBAL ID：202003004852176392
凹凸構造体の製造方法、凹凸構造体を製造する方法に用いられる積層体および当該積層体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
速水 進治
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018044711
公開番号（公開出願番号）：WO2019-142528
出願日： 2018年12月05日
公開日（公表日）： 2019年07月25日
要約：
基材層と、フッ素含有環状オレフィンポリマー(A)、光硬化性化合物(B)および光硬化開始剤(C)を含む光硬化性樹脂層と、保護フィルム層とをこの順に備えた積層体を準備する準備工程と、積層体の保護フィルム層を剥がす剥離工程と、剥離工程で露出した光硬化性樹脂層にモールドを圧接する圧接工程と、光硬化性樹脂層に光を照射する光照射工程とを含み、モールドの凹凸が反転された凹凸構造体を製造する、凹凸構造体の製造方法。また、モールドの凹凸が反転された凹凸構造体を製造する方法に用いられる、基材層と、フッ素含有環状オレフィンポリマー(A)、光硬化性化合物(B)および光硬化開始剤(C)を含む光硬化性樹脂層とをこの順に備えた積層体。
請求項（抜粋）：
基材層と、フッ素含有環状オレフィンポリマー(A)、光硬化性化合物(B)および光硬化開始剤(C)を含む光硬化性樹脂層と、保護フィルム層とをこの順に備えた積層体を準備する準備工程と、
前記積層体の前記保護フィルム層を剥がす剥離工程と、
前記剥離工程で露出した前記光硬化性樹脂層にモールドを圧接する圧接工程と、
前記光硬化性樹脂層に光を照射する光照射工程と
を含み、前記モールドの凹凸が反転された凹凸構造体を製造する、凹凸構造体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 Z
, H01L21/30 502D
4F209AA12A
, 4F209AA16A
, 4F209AA44
, 4F209AB04
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PG05
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 5F146AA31
, 5F146AA33
