特許

J-GLOBAL ID：202003004893149839

スパイラル型分離膜エレメントの製造方法

発明者： 西山 真哉 ,  山口 泰輔 ,  小西 貴久 ,  藤岡 宏樹 ,  釜田 卓 ,  井上 真一
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-191752
公開番号（公開出願番号）：特開2017-064710
特許番号：特許第6747926号
出願日： 2016年09月29日
公開日（公表日）： 2017年04月06日
請求項（抜粋）：

【請求項1】多孔性支持体の表面にスキン層を有する複合半透膜を作製する工程、前記スキン層上にアニオン性ポリビニルアルコールを35mg/m2以上含有する保護層を形成して保護層付き複合半透膜を作製する工程、前記保護層付き複合半透膜を用いて未洗浄スパイラル型分離膜エレメントを作製する工程、及び前記未洗浄スパイラル型分離膜エレメントに洗浄水を通水して、前記スキン層上の保護層を除去する工程を含むスパイラル型分離膜エレメントの製造方法。

IPC (3件)：

B01D 63/10 ( 200 6.01) ,  B01D 69/12 ( 200 6.01) ,  B01D 69/10 ( 200 6.01)

FI (3件)：

B01D 63/10 ,  B01D 69/12 ,  B01D 69/10