特許
J-GLOBAL ID：202003004914113147
足状態分析方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
右田 俊介
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-142403
公開番号（公開出願番号）：特開2020-018365
出願日： 2018年07月30日
公開日（公表日）： 2020年02月06日
要約：
【課題】歩行時の被検者の足圧を用いて被検者の足の接地状態を分析する技術を提供する。【解決手段】足状態分析方法は、歩行時の被検者における少なくとも一方の足の足圧分布情報を取得する取得工程(S11)と、取得された足圧分布情報から、足指部の圧力分布を示す足指圧分布情報若しくは足底部の圧力分布を示す足底圧分布情報のいずれか一方、又は、足指圧分布情報及び足底圧分布情報を切り分けてそれぞれ抽出する抽出工程(S13)と、足指圧分布情報若しくは足底圧分布情報のいずれか一方又は両方を用いて、被検者の足の接地状態を示す足状態情報を生成する生成工程(S15)と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
歩行時の被検者における少なくとも一方の足の足圧分布情報を取得する取得工程と、
前記取得された足圧分布情報から、足指部の圧力分布を示す足指圧分布情報若しくは足底部の圧力分布を示す足底圧分布情報のいずれか一方、又は、該足指圧分布情報及び該足底圧分布情報を切り分けてそれぞれ抽出する抽出工程と、
前記足指圧分布情報若しくは前記足底圧分布情報のいずれか一方又は両方を用いて、前記被検者の足の接地状態を示す足状態情報を生成する生成工程と、
を含む足状態分析方法。
IPC (3件)：
A61B 5/11
, A61B 5/107
, G01L 5/00
A61B5/11 210
, A61B5/107 130
, G01L5/00 101Z
2F051AA17
, 2F051AB00
, 2F051AC00
, 4C038VA04
, 4C038VB14
, 4C038VB15
, 4C038VB16
, 4C038VC05
, 4C038VC20
