特許

J-GLOBAL ID：202003004968452230

積層体、積層体の製造方法、偏光板、および偏光板の製造方法

発明者： 石丸 咲美 ,  濱本 大介
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (1件)： 籾井 孝文
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018021827
公開番号（公開出願番号）：WO2018-230429
出願日： 2018年06月07日
公開日（公表日）： 2018年12月20日
要約：

ポリエステル系樹脂基材とポリビニルアルコール系樹脂層との密着性に優れる積層体を提供する。積層体は、表面に易接着層が形成されたポリエステル系樹脂基材と、易接着層を介してポリエステル系樹脂基材に積層されたポリビニルアルコール系樹脂層と、を有し、易接着層の水接触角は、易接着層に水を滴下した直後に70°以上であり、滴下から30秒が経過することにより2°以上減少する。

請求項（抜粋）：

表面に易接着層が形成されたポリエステル系樹脂基材と、前記易接着層を介して前記ポリエステル系樹脂基材に積層されたポリビニルアルコール系樹脂層と、を有し、 前記易接着層の水接触角は、前記易接着層に水を滴下した直後に70°以上であり、該滴下から30秒が経過することにより2°以上減少する、積層体。

IPC (4件)：

G02B 5/30 ,  B32B 27/00 ,  B32B 27/36 ,  B32B 27/30

FI (4件)：

G02B5/30 ,  B32B27/00 D ,  B32B27/36 ,  B32B27/30 102

Fターム (33件)：

2H149AA02 ,  2H149AA18 ,  2H149AB16 ,  2H149AB23 ,  2H149BA02 ,  2H149BB07 ,  2H149BB12 ,  2H149EA28 ,  2H149EA29 ,  2H149FA03W ,  2H149FA03Z ,  2H149FA04Z ,  2H149FA12Z ,  2H149FD25 ,  2H149FD43 ,  2H149FD47 ,  4F100AK03B ,  4F100AK21B ,  4F100AK21C ,  4F100AK41A ,  4F100AL05B ,  4F100BA03 ,  4F100CA13C ,  4F100EH46B ,  4F100EH46C ,  4F100EJ373 ,  4F100EJ55A ,  4F100EJ55B ,  4F100GB41 ,  4F100JB04B ,  4F100JL10C ,  4F100JL11B ,  4F100JN10C