特許
J-GLOBAL ID:202003005432968206
フルオロメタンの製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
杉村 憲司
, 杉村 光嗣
, 寺嶋 勇太
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-217632
公開番号(公開出願番号):特開2020-083795
出願日: 2018年11月20日
公開日(公表日): 2020年06月04日
要約:
【課題】フルオロメタンを容易に得ることを可能にするフルオロメタンの製造方法を提供する。【解決手段】水素化触媒の存在下、温度200°C以下の雰囲気中で、式:CHaX3-aF(式中、aは、0〜2の整数を表し、Xは、BrまたはIを表し、Xが複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。)で表されるハロゲン化メタンと、水素とを気相で反応させ、フルオロメタンを含む反応生成物を得る工程を含む、フルオロメタンの製造方法。【選択図】なし
請求項(抜粋):
水素化触媒の存在下、温度200°C以下の雰囲気中で、式:CHaX3-aF(式中、aは、0〜2の整数を表し、Xは、BrまたはIを表し、Xが複数存在する場合、それらは互いに同一でも異なっていてもよい。)で表されるハロゲン化メタンと、水素とを気相で反応させ、フルオロメタンを含む反応生成物を得る工程を含む、フルオロメタンの製造方法。
IPC (4件):
C07C 17/354
, C07C 19/08
, B01J 23/42
, B01J 23/44
FI (4件):
C07C17/354
, C07C19/08
, B01J23/42 Z
, B01J23/44 Z
Fターム (33件):
4G169AA03
, 4G169BA08A
, 4G169BA08B
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC59A
, 4G169BC60A
, 4G169BC68A
, 4G169BC71A
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169BC75A
, 4G169BC75B
, 4G169CB02
, 4G169DA05
, 4G169FC08
, 4H006AA02
, 4H006AC22
, 4H006BA14
, 4H006BA21
, 4H006BA24
, 4H006BA25
, 4H006BA26
, 4H006BA55
, 4H006BA56
, 4H006BA61
, 4H006BC10
, 4H006BC18
, 4H006BC32
, 4H006BE20
, 4H006BM10
, 4H006BM71
, 4H039CD20
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