特許
J-GLOBAL ID:202003005601258213
ターゲット供給装置、極端紫外光生成装置及び電子デバイスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松浦 憲三
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-201997
公開番号(公開出願番号):特開2019-053308
特許番号:特許第6676127号
出願日: 2018年10月26日
公開日(公表日): 2019年04月04日
請求項(抜粋):
【請求項1】 ターゲット物質を収容するタンクと、
前記タンクから前記ターゲット物質が出力される孔を備えたノズルと、
前記ターゲット物質を前記ノズルの孔に導くための連通部に配置されたフィルタと、
前記タンクを加熱する少なくとも1つの加熱部と、
前記加熱部を制御する制御部と、
を備え、
前記タンクは、第1の領域と、前記第1の領域よりも前記フィルタに近い領域にある第2の領域とを含み、
前記制御部は、前記第1の領域が前記第2の領域より先に前記ターゲット物質の融点に達するよう前記加熱部を設定する、
ターゲット供給装置。
IPC (2件):
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H05G 2/00 ( 200 6.01)
FI (3件):
G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
, H05G 2/00 K
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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