特許
J-GLOBAL ID：202003005858810065
パターン描画装置、及びパターン露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
千葉 剛宏
, 宮寺 利幸
, 千馬 隆之
, 仲宗根 康晴
, 坂井 志郎
, 関口 亨祐
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018008450
公開番号（公開出願番号）：WO2018-164087
出願日： 2018年03月06日
公開日（公表日）： 2018年09月13日
要約：
光源装置(LS)からのビーム(LB)を基板(P)上で走査する複数の描画ユニット(Un)が所定の配置関係で設けられ、描画ユニット(Un)の各々によって基板(P)にパターンを描画するパターン描画装置は、光源装置(LS)からのビームを複数の描画ユニット(Un)のいずれか1つに選択的に供給するために、光源装置(LS)からのビーム(LB)を順番に通すように配置され、電気的な制御によってビーム(LB)を回折させた主回折ビーム(LBn)を描画ユニット(Un)に向けるための複数の選択用光学部材(OSn)と、複数の選択用光学部材(OSn)のうちビーム(LB)の光路に沿った前段の選択用光学部材(OS1)と後段の選択用光学部材(OS2)とを共役関係にするリレー光学系(Ga、Gb)と、主回折ビーム(LBn)に対して角度をもって前段の選択用光学部材(OS1)から発生する副回折ビーム(LBn’)が後段の選択用光学部材(OS2)に入射することを阻止する阻止光学部材(IMn’)とを備える。
請求項（抜粋）：
光源装置からのビームを基板上で走査する複数の描画ユニットによって、前記基板上にパターンを描画するパターン描画装置であって、
前記光源装置からのビームを前記複数の描画ユニットのいずれか1つに選択的に供給するために、前記光源装置からのビームを順番に通すように配置され、電気的な制御によって前記ビームを回折させた主回折ビームを前記描画ユニットに向けるための複数の選択用光学部材と、
前記複数の選択用光学部材のうち前記ビームの光路に沿った前段の前記選択用光学部材と後段の選択用光学部材とを共役関係にするリレー光学系と、
前記主回折ビームに対して角度をもって前記前段の選択用光学部材から発生する副回折ビームが前記後段の選択用光学部材に入射することを阻止する阻止光学部材と、
を備える、パターン描画装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (26件)：
2H197AA22
, 2H197AA29
, 2H197AA41
, 2H197BA02
, 2H197BA06
, 2H197BA07
, 2H197BA09
, 2H197BA30
, 2H197CA03
, 2H197CA07
, 2H197CA12
, 2H197CD30
, 2H197DB05
, 2H197DC02
, 2H197DC06
, 2H197DC11
, 2H197DC18
, 2H197EA13
, 2H197EA19
, 2H197EB03
, 2H197EB16
, 2H197EB21
, 2H197EB23
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197HA10
