特許
J-GLOBAL ID:202003006009295153
超音波水噴射装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人東京アルパ特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-123079
公開番号(公開出願番号):特開2020-000995
出願日: 2018年06月28日
公開日(公表日): 2020年01月09日
要約:
【課題】超音波振動を弱めないように伝播してウェーハを洗浄する。【解決手段】超音波水噴射装置11では、水溜部19内の洗浄水Lに向けて超音波振動を輻射する輻射面26が、凹んだドーム形状に形成されている。このため、輻射面26から発振された超音波振動が、噴射口21に向かって集中する。超音波振動が水溜部19内で反射しにくいので、噴射口21から噴射される超音波水Lsにより、超音波振動を十分に伝播することができる。したがって、噴射口21から噴射される超音波水Lsを用いてウェーハを洗浄する際、ウェーハ上の汚れに超音波振動を十分に伝えることができるため、洗浄力を向上させることができる。【選択図】図2
請求項(抜粋):
被加工物に超音波振動を伝播させた水を噴射する超音波水噴射装置であって、
水供給源から供給される水を一時的に溜める筒状の水溜部と、
該水溜部の一方の端側に設けられ、水を噴射する噴射口と、
該噴射口に対向して該水溜部に配設され、該超音波振動を発振する振動子と、を備え、
該振動子から発振された該超音波振動が該噴射口に向かって集中するように、該振動子の該噴射口側が、凹んだドーム形状に形成され、
該水溜部で該超音波振動を伝播させた水が、該噴射口から該被加工物に噴射される、
超音波水噴射装置。
IPC (3件):
B05B 17/06
, H01L 21/304
, H01L 21/301
FI (3件):
B05B17/06
, H01L21/304 643D
, H01L21/78 F
Fターム (24件):
4D074AA09
, 4D074BB03
, 4D074DD04
, 4D074DD09
, 4D074DD14
, 4D074DD22
, 4D074DD34
, 4D074DD44
, 5F063AA15
, 5F063BA43
, 5F063BA47
, 5F063BA48
, 5F063DD21
, 5F063FF35
, 5F157AA98
, 5F157AB02
, 5F157AB16
, 5F157AB33
, 5F157AB90
, 5F157AC01
, 5F157AC13
, 5F157BB32
, 5F157BB45
, 5F157BB73
引用特許:
審査官引用 (6件)
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精密洗浄方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-323334
出願人:島田理化工業株式会社
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基板洗浄方法およびその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-013912
出願人:大日本スクリーン製造株式会社
-
超音波洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-151211
出願人:松下電器産業株式会社
-
基板洗浄方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-265393
出願人:株式会社日立プラントテクノロジー
-
基板洗浄装置および基板洗浄方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願2013-199169
出願人:株式会社SCREENホールディングス
-
超音波洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-130131
出願人:島田理化工業株式会社
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