特許

J-GLOBAL ID：202003006061858093

初期なじみ剤組成物および当該組成物を含む初期なじみシステム

発明者： 木本 訓弘 ,  後藤 友尋 ,  足立 幸志 ,  高橋 翼
出願人/特許権者： 株式会社ダイセル ,  国立大学法人東北大学
代理人 (1件)： 特許業務法人後藤特許事務所
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2018039646
公開番号（公開出願番号）：WO2019-093141
出願日： 2018年10月25日
公開日（公表日）： 2019年05月16日
要約：

本発明は、潤滑剤として水を用いたシステムにおける硬質炭素膜などの摺動部材において、低摩擦面(なじみ面)を形成するのに好適な初期なじみ剤組成物を提供する。 本発明の初期なじみ剤組成物10は、潤滑基剤としての水11と、ナノダイヤモンド粒子12とを含有する。初期なじみ剤組成物10において、水11の含有率は99質量%以上であり、且つ、ナノダイヤモンド粒子12の含有率は1.0質量%以下であることが好ましい。

請求項（抜粋）：

潤滑基剤としての水と、ナノダイヤモンド粒子とを含有する初期なじみ剤組成物。

IPC (3件)：

C10M 173/02 ,  C10M 125/02 ,  C10M 103/02

FI (3件)：

C10M173/02 ,  C10M125/02 ,  C10M103/02

Fターム (5件)：

4H104AA04A ,  4H104AA04C ,  4H104EB20 ,  4H104LA03 ,  4H104QA01