特許
J-GLOBAL ID：202003006618255117
選択的触媒還元システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
実広 信哉
, 渡部 崇
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2019-527808
公開番号（公開出願番号）：特表2020-513494
出願日： 2018年01月09日
公開日（公表日）： 2020年05月14日
要約：
本発明は、選択的触媒還元システム内の流動偏差が発生した領域でバッフル部材を含んで流体の流動偏差を改善した技術を説明している。
請求項（抜粋）：
触媒層を備える選択的触媒還元(SCR)システムにおいて、
前記触媒層の前端から離隔して位置し、流体の流動断面の少なくとも一方向への拡張による流動偏差を減少させるための複数個のバッフル部材を含み、
それぞれのバッフル部材は、前記流動断面の拡張方向に垂直な方向にそれぞれ延びる第1部分及び第2部分を含み、前記第1部分の一端部と前記第2部分の一端部は、一体に形成されて、前記それぞれのバッフル部材は、前記流体の導入方向に突出した形状である、選択的触媒還元システム。
IPC (4件)：
F01N 3/08
, F01N 3/24
, B01D 53/90
, B01D 53/86
F01N3/08 B
, F01N3/24 P
, B01D53/90
, B01D53/86 222
3G091AB05
, 3G091BA01
, 3G091BA14
, 3G091CA17
, 4D148AA06
, 4D148AB02
, 4D148AC04
, 4D148CC22
, 4D148CC61
, 4D148CC63
, 4D148DA03
, 4D148DA20
